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2025年全球面板及半導體正型光刻膠市場規(guī)模將達57億美金

2021-06-30
來源:智通財經網

智通財經APP獲悉,由于KrF光刻膠產能受限以及全球晶圓廠積極擴產等原因,,傳日本信越化學近日已經向中國大陸多家晶圓廠限制供貨,,使得國內多家晶圓廠將會面臨KrF光刻膠缺貨的處境。

半導體用光刻膠通過不斷縮短曝光波長以提高極限分辨率,,世界芯片工藝水平目前已跨入微納米級別,,光刻膠的波長由紫外寬譜逐步至g線(436nm),、i線(365nm)、KrF(248nm),、 ArF(193nm),,以及最先進的EUV(<13.5nm)線水平。目前,,國內主要的半導體光刻膠供應商有北京科華,、南大光電、晶瑞股份,、上海新陽等公司,。

面板光刻膠按光刻膠特性主要分為正型和負型兩類光刻膠。負型光刻膠在曝光區(qū)域發(fā)生交聯,,難溶于顯影液,,光刻膠得以保留,非曝光區(qū)域易溶于顯影液,;而正型光刻膠則相反,,曝光區(qū)域容易溶解于顯影液,非曝光區(qū)不易溶于顯影液,。國內企業(yè)在面板光刻膠方面有較大突破,,北旭、飛凱材料,、欣奕華,、博硯、雅克科技等均已放量出貨,。

隨著顯示面板和晶圓產能的擴張,,全球光刻膠需求量也在不斷增加。以面板和半導體正型光刻膠市場需求為例,,CINNO Research發(fā)布報告稱,,至2025年全球面板及半導體正型光刻膠市場規(guī)模將實現年均復合增長率3.2%至57億美金。

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圖示:2016-2025年全球顯示及半導體用正型光刻膠材料市場規(guī)模預測,,來源:CINNO Research

從光刻膠市場競爭格局來看,,國內光刻膠材料在面板顯示和半導體領域已經取得一定實績,但仍然存在技術相對薄弱,,國產化率較低等問題,,國內供應鏈上下游仍需努力協作,提高產品開發(fā)能力,,提升產品品質,,加速推進國產化進程,解決供應鏈安全問題,。




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