10月15日,“中國光谷”通過微信公眾號發(fā)布消息稱,,武漢太紫微光電科技有限公司(以下簡稱“太紫微公司”)推出的T150 A光刻膠產(chǎn)品,,已通過半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證,實(shí)現(xiàn)配方全自主設(shè)計,,有望開創(chuàng)國內(nèi)半導(dǎo)體光刻制造新局面,。
據(jù)介紹,太紫微公司的這款光刻膠產(chǎn)品對標(biāo)國際頭部企業(yè)主流KrF光刻膠系列,。相較于被業(yè)內(nèi)稱之為“妖膠”的國外同系列產(chǎn)品UV1610,,T150 A在光刻工藝中表現(xiàn)出的極限分辨率達(dá)到120nm,且工藝寬容度更大,,穩(wěn)定性更高,,堅膜后烘留膜率優(yōu)秀,其對后道刻蝕工藝表現(xiàn)更為友好,,通過驗(yàn)證發(fā)現(xiàn)T150 A中密集圖形經(jīng)過刻蝕,,下層介質(zhì)的側(cè)壁垂直度表現(xiàn)優(yōu)異。
眾所周知,,光刻膠是半導(dǎo)體芯片制造過程中所必須的關(guān)鍵材料,。由于目前光刻機(jī)曝光光源一共有六種,分別是紫外全譜(300~450nm),、 G 線(436nm),、 I 線(365nm)、深紫外(DUV,,包括 248nm 和 193nm)和極紫外(EUV),,相對應(yīng)于各曝光波長的光刻膠也應(yīng)運(yùn)而生,對應(yīng)分別為,,g 線光刻膠,、i 線光刻膠、KrF光刻膠,、 ArF光刻膠,、EUV光刻膠。
從市場占有率來看,,全球光刻膠市場主要被日本和美國廠商占據(jù),。根據(jù) TOK 和 Fujifilm 2020年的數(shù)據(jù)顯示:
g/i :東京應(yīng)化占比 25.2%,陶氏杜邦占比 19.1%,,住友化學(xué)占比 15.7%,;
KrF:東京應(yīng)化占比 31.4%,信越化學(xué)占比 21.9%,,合成橡膠占比 20.9%,,陶氏杜邦占比 10.9%,;
ArF:合成橡膠(JSR)占比24.9%,信越化學(xué)占比 21.8%,,住友化學(xué)占比 16.8%,,東京應(yīng)化占比15.8%;
EUV:東京應(yīng)化占比51.8%,,另外合成橡膠(JSR)也有不小的份額,。
雖然近年來,隨著國產(chǎn)半導(dǎo)體制造業(yè)務(wù)發(fā)展,,國產(chǎn)光刻膠廠商也取得了一些突破,,但是在中高端光刻膠市場仍是相對較弱。具體來說,,低端的中g(shù)線/i線光刻膠自給率約為20%,,KrF光刻膠自給率不足5%,而高端的ArF光刻膠也是近兩年才有所突破,,比如彤程新材,、南大光電的ArF光刻膠都已有對外供貨。至于更高端的EUV光刻膠,,由于美國的阻撓,,國內(nèi)目前無法進(jìn)口EUV光刻機(jī),因此國產(chǎn)EUV光刻膠的開發(fā)自然也無從談起,。
資料顯示,,太紫微公司成立于2024年5月,由華中科技大學(xué)武漢光電國家研究中心團(tuán)隊創(chuàng)立,。團(tuán)隊立足于關(guān)鍵光刻膠底層技術(shù)研發(fā),,在電子化學(xué)品領(lǐng)域深耕二十余載。
企業(yè)負(fù)責(zé)人,、英國皇家化學(xué)會會員,、華中科技大學(xué)教授朱明強(qiáng)表示:“以原材料的開發(fā)為起點(diǎn),最終獲得具有自主知識產(chǎn)權(quán)的配方技術(shù),,這只是個開始,我們團(tuán)隊還會發(fā)展一系列應(yīng)用于不同場景下的KrF與ArF光刻膠,,為國內(nèi)相關(guān)產(chǎn)業(yè)帶來更多驚喜,。”
△太紫微核心研發(fā)團(tuán)隊成員(前排左一為朱明強(qiáng)教授)
太紫微公司致力于半導(dǎo)體專用高端電子化學(xué)品材料的開發(fā),,并以新技術(shù)路線為半導(dǎo)體制造開辟新型先進(jìn)光刻制造技術(shù),,同時為材料的分析與驗(yàn)證提供最全面的手段。
“無論是從國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)崛起的背景來看,,還是從摩爾定律演變的規(guī)律展望未來,,‘百家爭鳴’的局面已形成,,光刻領(lǐng)域還會有很多新技術(shù)、新企業(yè)破繭成蝶,,但擁有科技創(chuàng)新的力量是存活下去的必要前提,。”太紫微外聘專家顧問表示,。