《電子技術(shù)應(yīng)用》
您所在的位置:首頁 > 模擬設(shè)計(jì) > 業(yè)界動(dòng)態(tài) > 新型光刻機(jī)專利曝光,,上海微電子的技術(shù)儲(chǔ)備如何,?

新型光刻機(jī)專利曝光,上海微電子的技術(shù)儲(chǔ)備如何,?

2021-10-26
來源:有觀君

近日,,上海微電子舉行新產(chǎn)品發(fā)布會(huì),該公司推出新一代大視場高分辨率先進(jìn)封裝光刻機(jī),。據(jù)悉,,上微已與多家客戶達(dá)成新一代先進(jìn)封裝光刻機(jī)銷售協(xié)議,首臺(tái)將于年內(nèi)交付,。

上海微電子早在2018年就申請(qǐng)了一項(xiàng)名為“一種光刻投影物鏡及光刻機(jī)”的發(fā)明專利(申請(qǐng)?zhí)枺?201811648523.1),。據(jù)悉,該專利申請(qǐng)人為上海微電子裝備 (集團(tuán)) 股份有限公司,。

光學(xué)光刻是一種用光將掩模圖案投影復(fù)制的技術(shù),,集成電路就是由投影曝光裝置制成的,將具有不同掩模圖案的圖形成像至基底上,,制造集成電路,、薄膜磁頭、液晶顯示板,,或微機(jī)電等一系列結(jié)構(gòu),。過去數(shù)十年曝光設(shè)備技術(shù)水平不斷發(fā)展,滿足了更小線條尺寸,,更大曝光面積,,更高可靠性及產(chǎn)率,以及更低成本的需求,。然而現(xiàn)有的光刻投影物鏡依舊存在諸如數(shù)值孔徑較小,、分辨率低、適用波段窄,、數(shù)值孔徑不可變和非球面透鏡加工制造成本高等問題,。

根據(jù)智慧芽數(shù)據(jù)顯示,,截至最新,上海微電子及其關(guān)聯(lián)公司在126個(gè)國家/地區(qū)中,,共有3541件專利申請(qǐng),,從專利授權(quán)量上來看,自2003年開始,,上海微電子所有專利中,,頭15年每年專利授權(quán)量占該年次專利授權(quán)量比例都非常高,幾乎占比能達(dá)到90%,,但近幾年該公司的專利授權(quán)比例呈現(xiàn)下降趨勢(shì)(詳見圖1),。智慧芽咨詢專家表示,授權(quán)發(fā)明專利量在專利申請(qǐng)總量中的占比高低反映了其創(chuàng)新程度高低,。此外,,根據(jù)智慧芽的數(shù)據(jù)庫可知,該公司的上述專利申請(qǐng)技術(shù)構(gòu)成如下,,該公司有48.01%的專利技術(shù)都是和“圖紋面,,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝,;圖紋面照相制版用的材料,,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備”有關(guān)(詳見圖2),。

1.jpg

圖1:上海微電子專利趨勢(shì)

2.jpg

圖2:上海微電子專利技術(shù)構(gòu)成

(備注:智慧芽全球?qū)@麛?shù)據(jù)庫收錄數(shù)據(jù)包括126個(gè)國家/地區(qū)中已經(jīng)公開的專利,,一般來說,專利從申請(qǐng)到公開可查詢,,需要4到18個(gè)月)




最后文章空三行圖片.jpg


本站內(nèi)容除特別聲明的原創(chuàng)文章之外,,轉(zhuǎn)載內(nèi)容只為傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)站贊同其觀點(diǎn),。轉(zhuǎn)載的所有的文章,、圖片、音/視頻文件等資料的版權(quán)歸版權(quán)所有權(quán)人所有,。本站采用的非本站原創(chuàng)文章及圖片等內(nèi)容無法一一聯(lián)系確認(rèn)版權(quán)者,。如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)和其它問題,,請(qǐng)及時(shí)通過電子郵件或電話通知我們,,以便迅速采取適當(dāng)措施,避免給雙方造成不必要的經(jīng)濟(jì)損失,。聯(lián)系電話:010-82306118,;郵箱:[email protected]