如今，隨著半導(dǎo)體制程技術(shù)越來越先進,，對于制造芯片的機械設(shè)備的要求也越來越高,，于是荷蘭ASML公司生產(chǎn)的EUV光刻機成為半導(dǎo)體制程技術(shù)的關(guān)鍵生產(chǎn)設(shè)備,。但是,，由于EUV光刻機造價高昂，每臺價格超過1億美元,，并且EUV光刻機制造難度大,，產(chǎn)能嚴重不足等原因，使得各大芯片生產(chǎn)公司瘋狂搶奪EUV光刻機,，并且如果缺少光刻機的話,，芯片的生產(chǎn)成本將大幅提高。

面對如此嚴峻的問題,，日本存儲大廠鎧俠（Kioxia）聯(lián)合半導(dǎo)體設(shè)備廠佳能、光罩等半導(dǎo)體零組件制造商大日本印刷株式會社（DNP）共同開發(fā)了一種新的NIL制程技術(shù),，可以在不適用EUV光刻機的情況下就能夠使半導(dǎo)體制程技術(shù)進到5nm,。

據(jù)悉，現(xiàn)在鎧俠已經(jīng)掌握了15nm的制程量產(chǎn)技術(shù),，目前正在全力進行15nm一下技術(shù)的研發(fā),，預(yù)計將于2025年進一步達成計劃目標。

對比于現(xiàn)在已商用化的EUV光刻技術(shù)，鎧俠方面表示,，NIL技術(shù)優(yōu)勢在于可以大幅減少耗能,，并降低設(shè)備成本。原因在于NIL 技術(shù)的微影制程較為單純,，耗電量可壓低至EUV技術(shù)的10％,，并讓設(shè)備投資降低至僅有EUV設(shè)備的40％。目前,，高端的EUV光刻機只有荷蘭ASML一家能夠生產(chǎn)供應(yīng),，其不但價格高，而且需要許多檢測設(shè)備的配合,，并且生產(chǎn)極為困難,，產(chǎn)能極其有限。

不過,，雖然NIL技術(shù)有許多的優(yōu)點,，但現(xiàn)階段在投入量產(chǎn)上仍有不少問題有待解決，其中比較大的問題就是對比EUV光刻機來說,，NIL技術(shù)更容易因空氣中的細微塵埃的影響而形成瑕疵,。

據(jù)悉，對鎧俠來說,，NAND零組件因為采取3D立體堆疊結(jié)構(gòu),，更容易適應(yīng)NIL技術(shù)制程。而鎧俠也表示,，目前已成功解決NIL的基本技術(shù)問題,，正在進行量產(chǎn)技術(shù)的推進工作，希望能較其他競爭對手率先引入到NAND生產(chǎn)當(dāng)中,。而一旦鎧俠能成功率先引入NIL技術(shù)并實現(xiàn)量產(chǎn),，有望彌補在設(shè)備投資競賽中的不利局面，又能符合減少碳排放的需求,。

另外,，根據(jù)DNP的說法，NIL量產(chǎn)技術(shù)電路微縮程度可達5nm節(jié)點,，并且DNP從2021 年的春天開始,，就已經(jīng)在根據(jù)設(shè)備的規(guī)格值進行內(nèi)部的模擬仿真當(dāng)中。而對于這樣的技術(shù)進步,，DNP透露說,，已經(jīng)有不少半導(dǎo)體制造商開始詢問NIL 量產(chǎn)技術(shù)，這就表示不少廠商對NIL技術(shù)寄予厚望,。

另一個合作伙伴佳能,，也致力于將NIL量產(chǎn)技術(shù)廣泛的應(yīng)用于制作DRAM及PC用的CPU等邏輯芯片的設(shè)備上，以在未來供應(yīng)更多的半導(dǎo)體制造商，將來也希望能應(yīng)用于手機應(yīng)用處理器等最先進制程上,。

假如NIL未來能成功開發(fā)出來,，對于現(xiàn)在的半導(dǎo)體行業(yè)來說絕對是個大好消息，半導(dǎo)體芯片的產(chǎn)能將因此得到大幅提高,，也能夠很大程度的緩解如今全球范圍內(nèi)的缺芯問題,。