《電子技術(shù)應(yīng)用》
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ReRAM:DRAM和NAND的最強(qiáng)繼任者,?

2022-06-18
來(lái)源:半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)縱橫
關(guān)鍵詞: ReRAM DRAM NAND 人工智能

存儲(chǔ)器是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的重要分支,約占全球半導(dǎo)體市場(chǎng)的四分之一至三分之一,。存儲(chǔ)器已經(jīng)形成主要由DRAM與Flash構(gòu)成的超千億美元的市場(chǎng),。盡管存儲(chǔ)器產(chǎn)品品類眾多,但從產(chǎn)品營(yíng)收貢獻(xiàn)的角度來(lái)看,,DRAM和Flash(NAND,、NOR)的營(yíng)收占比超95%。

DRAM與Flash雖然在存儲(chǔ)器領(lǐng)域近乎“絕對(duì)壟斷”,,但是,,人工智能、物聯(lián)網(wǎng),、5G到來(lái),,都加速了數(shù)字化浪潮來(lái)襲。在這個(gè)背景下,,數(shù)據(jù)處理的需求量呈指數(shù)級(jí)上升,,半導(dǎo)體從業(yè)者紛紛加大對(duì)存儲(chǔ)技術(shù)的研發(fā)與投資,想實(shí)現(xiàn)成本更低,、速度更快、效能更好的存儲(chǔ),。

龍頭也有短板

存儲(chǔ)市場(chǎng)中,,最常見且被廣泛應(yīng)用的存儲(chǔ)器為DRAM與NAND。近年來(lái)隨著半導(dǎo)體制程持續(xù)朝更小的技術(shù)節(jié)點(diǎn)邁進(jìn),,DRAM與NAND嚴(yán)重面臨尺寸微縮挑戰(zhàn),,DRAM目前已接近微縮極限,而NAND則全力朝3D架構(gòu)轉(zhuǎn)型,。

此外,,隨著數(shù)據(jù)量的爆發(fā)增長(zhǎng),DRAM及NAND在耗電量及數(shù)據(jù)訪問(wèn)速度上已無(wú)法跟上需求的腳步,。他們?cè)谛枰咚龠\(yùn)算的應(yīng)用場(chǎng)景中也有一些阻礙,。

基于這些原因,下一代存儲(chǔ)技術(shù)為了補(bǔ)位,,出現(xiàn)在大家的視野中,。

新生代存儲(chǔ):PCRAM,、MRAM、ReRAM

經(jīng)過(guò)各個(gè)廠商數(shù)十年的不懈努力,,下一代存儲(chǔ)已經(jīng)出現(xiàn)了幾位極具潛力的種子選手:PCRAM,、磁阻式內(nèi)存MRAM、以及電阻式內(nèi)存ReRAM,。這些新興存儲(chǔ)的技術(shù)性能也各有差異,。

PCRAM(相變隨機(jī)存儲(chǔ)器)

PCRAM是一種利用相變材料作為存儲(chǔ)介質(zhì),通過(guò)相變材料在電流的焦耳熱作用下,,在結(jié)晶相態(tài)和非晶相態(tài)之間快速并可逆的轉(zhuǎn)換時(shí),,會(huì)呈現(xiàn)出的不同電阻率這一特性來(lái)實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)的技術(shù)。

與NAND相比,,PCRAM在寫入更新代碼之前不需要擦除以前的代碼或數(shù)據(jù),,所以在速度方面,比NAND有優(yōu)勢(shì),,讀寫時(shí)間較為均衡,。然而,PCRAM雖然讀寫速度比NAND有所提高,,但冷卻過(guò)程會(huì)帶來(lái)更高功耗,。其次,為了使相變材料兼容CMOS工藝,,PCRAM必須采取多層結(jié)構(gòu),,因此存儲(chǔ)密度過(guò)低,在容量上無(wú)法替代NAND,。

PCRAM早已逐漸步入產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程,。

2006年,英特爾和美光成立IM Flash Technologies,,開始合作研發(fā)新的存儲(chǔ)器技術(shù),。2012年,雙方開始合作3D XPoint存儲(chǔ)項(xiàng)目,,3D XPoint技術(shù)也是PCRAM的一種,。2015年7月,美光和因特爾聯(lián)合發(fā)表了發(fā)表雙方共同研發(fā)的存儲(chǔ)器技術(shù):3D XPoint存儲(chǔ)器技術(shù),。

MARM(磁性隨機(jī)存儲(chǔ)器)

MRAM(磁性隨機(jī)存儲(chǔ)器)靠磁場(chǎng)極化而非電荷來(lái)存儲(chǔ)數(shù)據(jù),,存儲(chǔ)單元由自由磁層、隧道柵層,、固定磁層組成,。自由磁層的磁場(chǎng)極化方向可以改變,固定層的磁場(chǎng)方向不變,,當(dāng)自由層與固定層的磁場(chǎng)方向平行時(shí),,存儲(chǔ)單元呈現(xiàn)低電阻,;反之呈高電阻,通過(guò)檢測(cè)存儲(chǔ)單元電阻的高低,,即可判斷所存數(shù)據(jù)是0還是1,。MRAM擁有SRAM的高速讀取寫入能力,以及DRAM的高集成度,,而且基本上可以無(wú)限次地重復(fù)寫入,。

MRAM最大的缺點(diǎn)是存儲(chǔ)單元之間存在干擾,當(dāng)對(duì)目標(biāo)位進(jìn)行編程時(shí),,非目標(biāo)位中的自由層很容易被誤編程,,尤其是在高密度情況下,相鄰單元間的磁場(chǎng)的交疊會(huì)愈加嚴(yán)重,。

從開始研究到現(xiàn)在,,MRAM已經(jīng)有20多年歷史了。

上世紀(jì)末,,前沿半導(dǎo)體公司已經(jīng)開始對(duì)MRAM的研究,。1995年摩托羅拉(其芯片部門后獨(dú)立成為飛思卡爾半導(dǎo)體,飛思卡爾半導(dǎo)體在2015年被恩智浦收購(gòu))演示了第一個(gè)MRAM芯片,,并生產(chǎn)出了1MB的芯片原型,。

20多年來(lái),IBM,、TDK,、STT、Intel,、格芯,、ST意法半導(dǎo)體等公司相繼入局,都在MRAM的商用產(chǎn)品上有了自己的產(chǎn)品或技術(shù),。今年1月份,,三星公司成功開發(fā)出新的MRAM陣列。

ReRAM(阻變存儲(chǔ)器)

ReRAM(阻變存儲(chǔ)器,,也稱憶阻器)是當(dāng)下最有前景的新型非易失性存儲(chǔ)技術(shù)之一,其器件結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,,操作方式簡(jiǎn)捷,,具有尺寸易于縮小,高速度,,低功耗,,低成本,易與CMOS工藝兼容等諸多特點(diǎn),。

典型的ReRAM由兩個(gè)金屬電極夾一個(gè)薄介電層組成,,介電層作為離子傳輸和存儲(chǔ)介質(zhì),。在上下電極間施加電壓,中間的阻變層中會(huì)形成一條導(dǎo)電通道,。通過(guò)改變上下電極間的電壓來(lái)控制導(dǎo)電通道的狀態(tài),,進(jìn)而使得存儲(chǔ)器件的電阻值發(fā)生變化。不同的電阻值代表不同的存儲(chǔ)狀態(tài),,即使去掉電極上的電壓信號(hào),,電阻值仍然會(huì)繼續(xù)保持,因此可以實(shí)現(xiàn)非易失性存儲(chǔ),。

ReRAM的單元面積小,,讀寫速度是NAND的1000倍,同時(shí)功耗可以降低15倍,。

ReRAM工藝也更為簡(jiǎn)單,。以Crossbar為例,Crossbar的ReRAM能夠使用標(biāo)準(zhǔn)的CMOS工藝與設(shè)備,,對(duì)產(chǎn)線無(wú)污染,,整體制造成本低,可以很容易地讓半導(dǎo)體代工廠具備ReRAM的生產(chǎn)制造能力,,這對(duì)于量產(chǎn)和商業(yè)化推動(dòng)有很大優(yōu)勢(shì),。

從密度、能效比,、成本,、工藝制程和良率各方面綜合衡量,ReRAM存儲(chǔ)器在目前已有的新型存儲(chǔ)器中具備明顯優(yōu)勢(shì),。

多點(diǎn)開花的ReRAM應(yīng)用領(lǐng)域

ReRAM的優(yōu)越性能也讓其應(yīng)用也十分廣泛,。

AIoT:效能與安全是要義

AIoT主要由微型設(shè)備組成,供電能力弱且需要數(shù)據(jù)實(shí)時(shí)交互,,因此不僅要求存儲(chǔ)器件低功耗,,也需要高速度和低延遲。ReRAM在讀寫速度和功耗幾倍到幾百倍的提升,,并可實(shí)現(xiàn)更高的存儲(chǔ)密度,。

AIoT的數(shù)據(jù)要求具備基本的信息安全和隱私保護(hù)能力。一些廠商的ReRAM都帶有PUF密鑰,,每顆存儲(chǔ)芯片都擁有唯一信任根和唯一主動(dòng)標(biāo)識(shí)ID,,結(jié)合通用密碼算法,實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)和程序的防復(fù)制和防篡改能力,。

人工智能:亟需打破存儲(chǔ)墻

人工智能不斷發(fā)展,,對(duì)存儲(chǔ)和計(jì)算提出了更高的要求。目前計(jì)算機(jī)還是依然延續(xù)馮·諾依曼結(jié)構(gòu),,存儲(chǔ)單元和計(jì)算單元獨(dú)立分開,,

現(xiàn)有馮·諾伊曼計(jì)算系統(tǒng)采用存儲(chǔ)和運(yùn)算分離的架構(gòu),,存在“存儲(chǔ)墻”與“功耗墻”瓶頸,嚴(yán)重制約系統(tǒng)算力和能效的提升,?!澳苄П鹊汀币呀?jīng)成為人工智能芯片的瓶頸問(wèn)題。

ReRAM可以直接在芯片上集成處理邏輯,,從而實(shí)現(xiàn)全新的以內(nèi)存為中心的SoC架構(gòu),。ReRAM的優(yōu)越特性有助于解決這些算法所需的性能和能源挑戰(zhàn)。通過(guò)減少存儲(chǔ)和計(jì)算之間的性能差距,。

數(shù)據(jù)中心:高速計(jì)算提出更高要求

DRAM讀寫速度很快,,但是無(wú)法下電保存數(shù)據(jù),NAND密度高,,可以下電保存數(shù)據(jù),,但是讀寫速度延遲高。高速計(jì)算,、5G,、萬(wàn)物互聯(lián)等應(yīng)用場(chǎng)景正在推動(dòng)數(shù)據(jù)中心、智能終端的高速增長(zhǎng)和轉(zhuǎn)型,,對(duì)數(shù)據(jù)中心和智能終端提出了性能的更高要求,。

通過(guò)利用ReRAM密度高、能耗低,、讀寫速度快及可下電數(shù)據(jù)保存的特點(diǎn),,能幫助用戶大幅提升數(shù)據(jù)中心性能,降低能耗,,達(dá)到運(yùn)營(yíng)成本的大幅降低,。

國(guó)內(nèi)外廠商的ReRAM布局

ReRAM相比MRAM和PRAM,研究要稍晚,。2000年,,夏普購(gòu)買了美國(guó)休斯敦大學(xué)的相關(guān)專利后,才引起學(xué)術(shù)界和業(yè)界的研究,。由于ReRAM獨(dú)特的優(yōu)勢(shì),,主流存儲(chǔ)器廠商也紛紛投入力量,開始對(duì)ReRAM的研究,。ReRAM也已經(jīng)由實(shí)驗(yàn)室階段進(jìn)入到企業(yè)的研發(fā)階段,。

松下在2013年開始出貨ReRAM,成為了世界第一家出貨ReRAM的公司,。

2016年11月,,富士通半導(dǎo)體開始銷售其與Panasonic共同開發(fā)的4兆字節(jié)(MB)ReRAM芯片,。今年4月,,富士通推出12Mbit ReRAM MB85AS12MT,,這是富士通ReRAM產(chǎn)品系列中密度最大的產(chǎn)品。

ReRAM技術(shù)的領(lǐng)導(dǎo)者Crossbar成立于2010年,。Crossbar將其技術(shù)作為現(xiàn)成的或定制的IP內(nèi)核授權(quán)給SoC和內(nèi)存公司,。Crossbar也在積極發(fā)展其生態(tài)系統(tǒng)硬件和軟件合作伙伴。2021年7月,,Crossbar它宣布將其ReRAM設(shè)備用于PUF應(yīng)用,。

Intrinsic是倫敦大學(xué)學(xué)院的一家衍生公司,旨在將新型憶阻ReRAM器件商業(yè)化,。今年2月份,,Intrinsic及其合作伙伴imec已將Intrinsic的ReRAM技術(shù)擴(kuò)展到50nm。

今年3月,,Weebit宣布,,借助CEA-Leti,將其ReRAM技術(shù)縮小到22nm,。兩家公司正在設(shè)計(jì)一個(gè)完整的IP內(nèi)存模塊,,該模塊集成了一個(gè)針對(duì)先進(jìn)的22nmFD-SOI工藝的多兆位ReRAM塊。Weebit也正在迅速加快其開發(fā)計(jì)劃,。

實(shí)質(zhì)上,,除去專門研究生產(chǎn)ReRAM的存儲(chǔ)廠商,還有一些存儲(chǔ)廠商采取的是兩邊下注的策略,。因?yàn)樗麄円_保一旦DRAM和NAND不能再滿足市場(chǎng)發(fā)展需求,,必須有一些研究成果可以取而代之。

2016年,,西部數(shù)據(jù)就宣布將在即將推出的專用SSD中使用3D ReRAM,,以取代NAND閃存。

國(guó)內(nèi)在ReRAM領(lǐng)域的研究也有了一些成果,。

今年2月16日,,由昕原半導(dǎo)體主導(dǎo)建設(shè)的大陸首條28/22nm ReRAM 12寸中試生產(chǎn)線順利完成了自主研發(fā)設(shè)備的裝機(jī)驗(yàn)收工作,實(shí)現(xiàn)了中試線工藝流程的通線,,并成功流片,。

實(shí)際上,昕原半導(dǎo)體專注于ReRAM領(lǐng)域,,是一家集核心技術(shù),、工藝制程、芯片設(shè)計(jì),、IP授權(quán)和生產(chǎn)服務(wù)于一體的新型IDM公司,。該公司的核心產(chǎn)品覆蓋高工藝嵌入式存儲(chǔ)、高密度非易失性存儲(chǔ)、存內(nèi)計(jì)算及存內(nèi)搜索等多個(gè)領(lǐng)域,。

除了IDM廠商外,,代工廠商也積極發(fā)展先進(jìn)技術(shù)以配合ReRAM的發(fā)展與生產(chǎn)。

2016年,,中芯國(guó)際與Crossbar簽訂一份代工協(xié)議,,基于中芯國(guó)際40納米CMOS制造工藝,為Crossbar生產(chǎn)ReRAM,。2017年,,中芯國(guó)際正式出樣40nm工藝的ReRAM芯片。

2021年,,臺(tái)積電40nmReRAM進(jìn)入量產(chǎn),,28nm和22nmReRAM準(zhǔn)備量產(chǎn)。

ReRAM未來(lái)前景光明,,近幾年,,也是ReRAM發(fā)展最關(guān)鍵的時(shí)期。在新興的存儲(chǔ)技術(shù)中,,ReRAM技術(shù)對(duì)于降低存儲(chǔ)器計(jì)算的能耗,、提高成本效益至關(guān)重要,因而極具發(fā)展前景,。然而,,要想把握這些機(jī)會(huì),真正成為DRAM和NAND的繼任者,,ReRAM還有很長(zhǎng)的路要走,。




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