當?shù)貢r間7月5日，據(jù)彭博社援引知情人士透露,，美國政府正在向荷蘭、日本施壓,，要求光刻機制造商阿斯麥（ASML）和尼康（Nikon）禁止向中國大陸出售制造全球大量芯片所需的主流技術,。此舉將使現(xiàn)有向中國出售最先進系統(tǒng)的限制范圍進一步擴大，旨在挫敗中國成為全球芯片生產領導者的計劃,。
該知情人士稱,，此前ASML就已經無法將其最先進的EUV光刻機工具運往中國了,，但美國政府希望將限制范圍擴大至老款DUV光刻機設備等。這些機器雖然比先進技術落后了一代,，但仍然是制造汽車,、手機、電腦,，乃至機器人所需的某些非先進芯片的最常用設備,。
除此之外，美國政府還試圖在對中國禁售光刻機方面向日本施加壓力,，因為日本尼康公司在ArFi光刻機領域占有少量的市場份額,。
▲彭博社相關報道截圖
據(jù)悉，擴大對華光刻機出口限制的這一提議,，是由美國商務部副部長唐?格雷夫斯（Don Graves）在5月底至6月初訪問荷蘭和比利時期間提出的,。當時他還參觀了ASML總部，并與ASML首席執(zhí)行官彼得?溫寧克（Peter Wennink）討論了供應鏈問題,。
ASML為何受制于美國,？
看到上述消息，不禁讓人產生疑惑：ASML是一家在荷蘭成立的公司,，但為什么要受制于美國,？
我們都知道，荷蘭ASML公司是全球最大的光刻機制造企業(yè),，但它其實也是一家集成工廠,，其光刻機所需要的元件超過八成都是在荷蘭以外的經濟體獲取的，特別是其中的關鍵技術和元件更是來自于美國,。
正是由于ASML的核心技術和元件來自于美國,，因此一臺售價昂貴的光刻機最后留給ASML的利潤其實并不高，美國企業(yè)已經拿走了相當比例的利潤,，而這也是美國企業(yè)的一貫做法——取得壟斷地位的行業(yè)都會將產品賣出高價,，獲取豐厚的利潤。
與此同時,，ASML的幾大客戶，比如Intel,、臺積電和三星等都深受美國影響,。其中，Intel是美國企業(yè),，臺積電的部分核心技術也來自于美國,，三星不僅技術來自于美國，就連它的大多數(shù)股份也被美國企業(yè)所持有,。另外,，臺積電和三星的客戶也主要是美國企業(yè),，尤其是臺積電有近七成的收入來自美國市場。
如此情況下,，美國可謂是抓住了ASML的命脈,，不聽從美國的要求，那么ASML就無法組裝出光刻機,，更無法將光刻機銷售出去,。
盡管ASML在全球芯片制造產業(yè)中扮演著一個非常重要的角色，但鑒于以上種種原因,，如果未來某天ASML無法再保證DUV或者EUV光刻機的正常供應了,，那么像臺積電、三星等世界頂尖的芯片代工廠都會受到不利的影響,，屆時整個半導體行業(yè)的發(fā)展也會陷入瓶頸,。
DUV與EUV有什么區(qū)別？
分析完ASML公司的基本情況,，我們再來看一下此次“禁令”涉及的老款DUV光刻機,，相較于EUV光刻機到底有什么區(qū)別？
首先,，二者最大的區(qū)別就在于光源的不同,。
DUV光刻機使用的是較為普通的深紫外線（Deep Ultraviolet Lithography），其光源波長為193nm,。
而EUV光刻機使用的則是極深紫外線（Extreme Ultraviolet Lithography）,，其光源波長為13．5nm。需要說明的是,，這一光源并非地球上天然存在的光線,，而是需要特定的技術和設備才能制造出來的。
相比DUV光刻機的光源,，EUV光刻機的光源更短,，故而折射率更大、能量更大,。
其次是光路系統(tǒng)的區(qū)別,。
DUV光刻機的光路，主要利用光的折射原理,，而且透鏡和晶圓之間可以采用不同的介質來改變光刻性能,。
反觀EUV光刻機，主要利用光的反射原理,，而且由于光源的特殊性,，需要真空操作。因為無論是水分子,，還是空氣中的其它介質,，都會讓光源被吸收,，從而造成損失。
再則是鏡頭質量要求的區(qū)別,。
相比DUV光刻機,，條件特殊且系統(tǒng)復雜的EUV光刻機對鏡頭質量更加嚴格。
有資料顯示,，EUV光刻機需要反射透鏡具備極高的光學精度,，同時還需要反射鏡表面鍍有采用Mo／Si多層膜結構，以便于實現(xiàn)最佳反射率,。
最后,，從制程范圍來看，DUV光刻機只能生產7nm以上制程的芯片,；而ASML制造出的EUV光刻機是生產7nm和5nm,，甚至是3nm芯片的核心設備，因此更為高端,。
上述種種區(qū)別,，造就了DUV和EUV光刻機在應用和價值上的最終區(qū)別。據(jù)悉,，DUV的價格為2000－5000萬美元／臺不等,；而EUV的價格則是1－3億美元／臺。目前,，荷蘭ASML公司幾乎壟斷了世界上的高端光刻機,，且產量非常少，價格昂貴,。
荷蘭ASML是什么態(tài)度,？
作為制造芯片最先進的設備，光刻機的先進程度等因素直接決定了芯片的制程工藝,。如果上述消息屬實,，這也意味著美國對中國芯片產業(yè)的全面圍堵。
畢竟,，具備7nm以下制程芯片制造能力的EUV光刻機,，早在2020年初就因為美國政府的壓力而禁止出口到中國了，而國內目前能夠自主制造的芯片制程仍停留在28nm,。如果荷蘭同意限制ASML向中國出售DUV光刻機,，這將使得限制禁止進入中國的芯片制造設備的范圍和類別進一步擴大，由此可能對中芯國際,、華虹半導體等中國大陸芯片制造商造成嚴重打擊。
雖然國內也有一家光刻機廠商,，名為上海微電子,，但它目前所能生產出的最先進的光刻機精度只有22nm,，與ASML相比還是有一定差距的。
所以,，現(xiàn)在有一個問題至關重要：ASML到底是什么態(tài)度,？
針對此事，ASML發(fā)言人表示,，“這種討論并不新鮮,，目前公司尚未作出任何決定，我們不會對傳言加以臆測或評論,?！?/p>
而尼康發(fā)言人也表示，“我們沒有關于此事的信息可以透露,?！?/p>
另據(jù)上述知情人士透露，目前荷蘭尚未同意對ASML向中國芯片制造商出口的任何額外限制,，這可能會損害該國與中國的貿易關系,。由于無法從荷蘭獲得出口許可證，ASML已經無法將其最先進的,、每臺售價約1．6億歐元的EUV光刻機運往中國了,。
與此同時，荷蘭首相馬克?呂特（Mark Rutte）不久之前也在公開場合表示,，反對改變與中國的貿易關系,。
而ASML首席執(zhí)行官彼得?溫寧克（Peter Wennink）此前也曾表明態(tài)度，反對禁止向中國出口DUV光刻機,。他認為,，對華技術出口管制不僅不能阻止中國的技術進步，反而會最終損害美國經濟,，最終搬了石頭砸自己的腳,。
從歷史經驗可以看出，“惡意限制”絕不是一個國家絕對領先的好方法,。如果ASML對中國停售關鍵芯片制造設備,，必將會導致它未來的路越走越窄。
