《電子技術(shù)應(yīng)用》
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入門:可編程邏輯電路—版圖驗(yàn)證工具的作用

2022-08-30
來源:Semi Connect

  版圖驗(yàn)證工具的作用是檢查版圖是否滿足設(shè)計(jì)規(guī)則,、電氣規(guī)則,、版圖與電路圖是否一致等,對(duì)于降低設(shè)計(jì)失敗的風(fēng)險(xiǎn)具有重要作用,。

  版圖驗(yàn)證工具不僅要支持扁平化驗(yàn)證,,而且要支持層次化驗(yàn)證。扁平化驗(yàn)證是版圖驗(yàn)證工具的基礎(chǔ),;層次化驗(yàn)證充分利用版圖層次,,可以有效避免重復(fù)報(bào)錯(cuò)和提高處理版圖的速度。對(duì)于大規(guī)模版圖,,通常還采用并行技術(shù)以加速版圖驗(yàn)證效率,。

  版圖驗(yàn)證工具主要包括設(shè)計(jì)規(guī)則檢查(Design Rule Check,DRC)、版圖電路圖一致性檢查(Layout Versus SchemaTIc,LVS)、電氣規(guī)則檢查(Electronic Rule Check,,ERC),、版圖比對(duì)檢查(Layout Versus Layout,LVL)等,。

  1.設(shè)計(jì)規(guī)則檢查(DRC)

  版圖設(shè)計(jì)必須遵循制造工藝的設(shè)計(jì)規(guī)則要求,,因此設(shè)計(jì)檢查主要包括連線寬度,、連線間距,、圖形包含關(guān)系、金屬密度,、天線效應(yīng)檢查等,。如果版圖設(shè)計(jì)中違反了這些規(guī)則將導(dǎo)致制造失敗,例如線條寬度過小可能導(dǎo)致斷路,。

  DRC涉及的關(guān)鍵技術(shù)有層次處理和掃描線算法等,。

  層次處理技術(shù)是對(duì)版圖原始層次進(jìn)行調(diào)整,根據(jù)需要對(duì)版圖圖形進(jìn)行投影或提升以提高DRC工具的性能,。

  掃描線算法包括基于梯形的掃描線算法和基于邊的掃描線算法,。DRC技術(shù)通常采用基于邊的掃描線算法。

  邊,,即一條線段,,用它的兩個(gè)端點(diǎn)的坐標(biāo)表示?;谶叺膾呙杈€算法的本質(zhì)是將平面的二維幾何問題轉(zhuǎn)化成兩個(gè)一維問題,,包含以下幾個(gè)步驟:

  (1)確定當(dāng)前掃描線的位置,;

 ?。?)加入當(dāng)前掃描線上的新進(jìn)邊,與原有的邊構(gòu)成當(dāng)前掃描線邊集合,;

 ?。?)對(duì)當(dāng)前掃描線邊集合進(jìn)行排序;

 ?。?)遍歷當(dāng)前掃描線邊集合,,根據(jù)不同的命令進(jìn)行相應(yīng)的邏輯處理;

 ?。?)刪除當(dāng)前掃描線上的離開邊,,并重新回到步驟(1)。

  在圖5-117中,,L1和L2圖層為輸入圖層,,x1、x2、x3,、x4為掃描線需要計(jì)算的位置,,Result圖層為結(jié)果圖層。

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  2.版圖電路圖一致性檢查(LVS)

  LVS工具的主要功能是檢查從版圖中提取的網(wǎng)表和從電路圖中導(dǎo)出的網(wǎng)表的一致性,,涉及的主要技術(shù)有網(wǎng)表提?。∟etlist ExtracTIon)技術(shù)和網(wǎng)表比較(Netlist Comparison)技術(shù)。網(wǎng)表提取的主要工作是提取電路的線網(wǎng)(Net),、器件(Device)和器件屬性,。網(wǎng)表比較本質(zhì)上是圖論中的圖同構(gòu)問題。

  LVS的基本原理:在有初始匹配對(duì)的情況下通過跟蹤匹配更多的器件或線網(wǎng),;在沒有初始匹配對(duì)的情況下使用簽名劃分等方法獲得初始匹配對(duì),,然后再?gòu)某踝R(shí)匹配對(duì)出發(fā)繼續(xù)跟蹤。如此循環(huán),,直至版圖與電路圖全部匹配或無新的匹配對(duì)產(chǎn)生為止,。對(duì)于未能匹配的器件和線網(wǎng),嘗試根據(jù)其周圍環(huán)境進(jìn)行修復(fù)并進(jìn)行匹配,;如果修復(fù)失敗,,則作為錯(cuò)誤寫出至報(bào)告中。

  其中,,簽名劃分方法是根據(jù)器件給每種器件賦予相應(yīng)簽名值,,根據(jù)簽名值的不同將器件劃分成不同集合;根據(jù)線網(wǎng)與器件的連接關(guān)系,,線網(wǎng)也會(huì)被賦予簽名值,,劃分為不同集合。

  圖5-118(a)為版圖提取網(wǎng)表,,圖5-118(b)為由電路圖導(dǎo)出網(wǎng)表,,LVS報(bào)告版圖存在一個(gè)開路錯(cuò)誤。

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  3.電氣規(guī)則檢查(ERC)

  ERC用于檢查版圖的電氣規(guī)則,,如開路,、短路、路徑檢查等,。ERC基于版圖進(jìn)行建成區(qū),,不需要電路圖,可以快速檢查并直觀定位設(shè)計(jì)中存在的常見問題,。通常ERC功能包含于LVS工具中,。

  4.版圖比對(duì)檢查(LVL)

  LVL工具主要應(yīng)用在兩個(gè)方面:1)版圖改版時(shí)設(shè)計(jì)者需要借助LVL工具查看修改前后的差異;2)制版時(shí)版圖數(shù)據(jù)通常被扁平化,,LVL工具用于比對(duì)版圖扁平化前后的差異,。

  LVL檢查涉及的關(guān)鍵技術(shù)有層次處理,、掃描線算法、數(shù)據(jù)壓縮,、并行計(jì)算等,。另外,由于涉及的規(guī)則比較少,,可以針對(duì)不同類型的版圖采用一些特殊的加速技巧,。

  工藝發(fā)展到40nm和更先進(jìn)的工藝后,因線距變小,,層厚度也變小,,線與周圍的環(huán)境以及線間耦合的影響變大,光學(xué)效應(yīng)的影響也凸顯出來,。傳統(tǒng)的版圖驗(yàn)證工具所采用的二維檢查技術(shù)已經(jīng)不能滿足檢查需求,,需要利用三維和光學(xué)分析技術(shù)以處理各種效應(yīng)的影響,開發(fā)新的檢查功能,,例如模式匹配(Pattern Match)、雙重/多重曝光(Double/MulTI- pattern),、智能啞元填充(Smart Fill)等,。



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