《電子技術(shù)應(yīng)用》
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美企研發(fā)全新光刻機(jī),造出0.7nm芯片

2022-09-26
來(lái)源:互聯(lián)網(wǎng)亂侃秀
關(guān)鍵詞: 光刻機(jī) 0.7nm 芯片

眾所周知,,目前最頂尖的光刻機(jī)是ASML的EUV光刻機(jī),,能夠制造3nm的芯片,。且在ASML的規(guī)劃中,到2024年或2025年會(huì)交付全新一代的High-NA極紫外光刻機(jī),。

這種EUV光刻機(jī),,數(shù)值孔徑變?yōu)?.55NA,,也就是解析度(精度)為8nm,可以制造2nm,,以及1.8nm的芯片,。

至于1.8nm以下,用什么光刻機(jī),?反正ASML現(xiàn)在還沒(méi)規(guī)劃,,因?yàn)?.8nm后,技術(shù)又會(huì)怎么樣變化,,誰(shuí)也不清楚,。

但近日,美國(guó)一家公司Zyvex,,利用一種完全不同于EUV光刻機(jī)的技術(shù),,制造出了768皮米,也就是0.7nm的芯片,。

而0.7nm,,差不多相當(dāng)于2個(gè)硅原子的寬度,也是理論上硅基芯片的最高精度,,所以很多人認(rèn)為,,當(dāng)芯片精度達(dá)到了1.8nm以后,可能EUV光刻機(jī)也不行了,,要使用Zyvex公司研發(fā)出的這種光刻技術(shù)了,。

Zyvex公司的光刻技術(shù),是啥技術(shù),?其光刻系統(tǒng)命名為為ZyvexLitho1,,是基于STM掃描隧道顯微鏡,使用的是EBL電子束光刻方式,,與極紫外線沒(méi)有任何關(guān)系,,稱之為電子束光刻機(jī),可能更合適一點(diǎn),。

按照Z(yǔ)yvex的說(shuō)法,,這臺(tái)ZyvexLitho1是可以商用的,還可以接受別人的訂單,,具體多少錢一臺(tái),,不清楚,但機(jī)器對(duì)方可以在6個(gè)月內(nèi)出貨,。

雖然可以對(duì)外出貨,,但國(guó)廠商,,想要買到它,,可能就千難萬(wàn)難了,,基本不太可能,畢竟EUV光刻機(jī)都買不到,,更不要說(shuō)精度更高的電子束光刻機(jī)了,。

當(dāng)然,硅基芯片,,也不需要這種電子束光刻機(jī),,這么高的精度更多還是用于量子計(jì)算芯片,制造出一些高精度的量子器件,,納米器材等,。

另外就是,EBL電子束光刻機(jī),,產(chǎn)能非常低,,至少在目前大規(guī)模制造芯片也不現(xiàn)實(shí),只能小規(guī)模的制造量子計(jì)算的芯片,,至于未來(lái)能不能技術(shù)改進(jìn),,提高產(chǎn)能,進(jìn)而取代EUV光刻機(jī),,還不清楚,。

但這或許也意味著在EUV光刻機(jī)后,EBL電子束光刻機(jī)是一個(gè)新的方向,,你覺(jué)得呢,?



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