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目前最高制造精度,美Zyvex產(chǎn)出0.7nm線寬芯片

2022-09-26
來源:21ic
關鍵詞: 美Zyvex 0.7nm 芯片

據(jù)業(yè)內(nèi)消息,近日美國一家商業(yè)精密制造公司Zyvex表示制出了亞納米分辨率光刻系統(tǒng)ZyvexLitho1,,這個系統(tǒng)沒有采用EUV光刻技術(shù),但是卻能產(chǎn)出只有0.7nm線寬的芯片,,是目前最高制造精度,。

在現(xiàn)階段的半導體領域,整個行業(yè)都還在向著5nm以下芯片發(fā)起沖鋒,,而此級別的尖端半導體制程離不開ASML的EUV光刻機,,僅僅一臺EUV光刻機的價格就高達數(shù)億美元,而且要想研發(fā)出更小制程的芯片,,EUV光刻機也無能為力,。

Zyvex是成立于上世紀末主要開發(fā)和商業(yè)化原子精密制造 (APM) 技術(shù)的企業(yè),以制造具有原子精密度的產(chǎn)品,。目前公司的業(yè)務為開發(fā)APM和開發(fā)微細加工/3D微組裝技術(shù),。

本次的亞納米分辨率光刻系統(tǒng)ZyvexLitho1是基于STM掃描隧道顯微鏡,使用的是EBL電子束光刻方式,,產(chǎn)出只有0.768nm線寬的芯片,,僅僅相當于2個Si原子的寬度,是EUV光刻機遠無法達到的,,也是當前制造精度最高的光刻系統(tǒng),。

ZyvexLitho1所采用自我顯影的電子束光刻(EBL)技術(shù)的核心是使用氫去鈍化光刻(HDL)從Si(100) 2×1二聚體列(dimer row)重建表面去除氫(H)原子。同時擁有無失真成像,、自適應電流反饋回路,、自動晶格對準、數(shù)字矢量光刻,、自動化和腳本,、內(nèi)置計量這五大功能。

對于量子計算機來說,,高精度的固態(tài)量子器件以及納米器件和材料都是非常重要的,,因此ZyvexLitho1所產(chǎn)出的芯片將會用于量子計算機。而且ZvyvexLitho1系統(tǒng)并不是一款實驗室原型產(chǎn)品,,而是一款已經(jīng)可以商用的產(chǎn)品,,Zyvex公司正在接收其訂單,預計大約6個月才能交貨,。

從目前來看,,ZyvexLitho1這類的EBL電子束光刻機的精度可以超過ASML的EUV光刻機,但是相比之下前者也有一定的劣勢,比如是產(chǎn)量很低,,不具備大規(guī)模制造芯片的能力,,只對少量高精度芯片/器件有直接幫助,因此價格也會非常昂貴,。



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