在半導(dǎo)體設(shè)備中,，光刻機是核心設(shè)備,，決定了工藝的先進(jìn)程度，EUV是當(dāng)前最先進(jìn)的光刻機,，可以制造7nm以下的工藝,，全球僅有荷蘭ASML公司能夠生產(chǎn)，單價將近10億元,，下一代EUV甚至超過25億元,。

研發(fā)EUV光刻機到底有多難？全球還有別的公司可以制造出來嗎,？對于這樣的疑問,，ASML公司日前在財報會議上談到了EUV的難點。

ASML表示，就ASML而言,，它由數(shù)百個供應(yīng)商組成,，每個供應(yīng)商在什么方面都是世界級的。

只要提到通快,、蔡司和VDSL的名字,，他們的工作就是世界級的，這只是上百家供應(yīng)商中的三個,。

研發(fā)光刻機需要的不止是專利,，它的訣竅是人，是大腦,，ASML表示這些花了40年的時間,。

物理學(xué)規(guī)律在全球都是一樣的，但是ASML做到這一步有著數(shù)百家公司積累的專業(yè)知識,，他們作為系統(tǒng)集成商做出了光刻機,。

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