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逆天了!清華大學(xué)SSMB-EUV光源橫空出世,,功率是EUV光刻機(jī)40倍,!

2023-09-14
來(lái)源: 萬(wàn)大叔
關(guān)鍵詞: 清華大學(xué) EUV 光刻機(jī)

真是逆天了,清華大學(xué)搞出了一個(gè)EUV光源方案,,震驚了所有人,。

最近幾天,隨著華為Mate 60的問(wèn)世,,麒麟9000S的熱度居高不下,,國(guó)內(nèi)外各種機(jī)構(gòu)、個(gè)人都在拆解分析這顆芯片,,得出的結(jié)論也比較多,。但不管真相如何,這顆芯片使用的必然不是最先進(jìn)的工藝制程,,但卻獲得了不俗的性能表現(xiàn),,這也讓很多人十分意外,也證明了華為的芯片設(shè)計(jì)方面的能力,。

那么隨著這次的突破,,大家紛紛猜測(cè),是不是國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)也有了大進(jìn)展,。隨后,,關(guān)于國(guó)產(chǎn)DUV光刻機(jī)和EUV光刻機(jī)的也就傳聞越來(lái)越多。目前來(lái)看,,可以總結(jié)為,,DUV很快就會(huì)交付使用,EUV快的話是明年,。是不是非常值得期待呢,?

不過(guò)大家也別著急,勁爆的消息還有很多,,例如就在剛剛,,突然傳出消息,清華大學(xué)正在搞一個(gè)新的EUV光源方案,,他就是SSMB-EUV光源,,我們先來(lái)簡(jiǎn)單說(shuō)說(shuō)這個(gè)是什么意思。

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大家看圖,,感覺是一個(gè)環(huán)形跑道對(duì)吧,,這就是它的特別之處,200米長(zhǎng),,20米寬,,也就是大,。

我們都知道,ASML的EUV光刻機(jī)的光源是小型化的產(chǎn)品,,因?yàn)楣饪虣C(jī)是用來(lái)銷售的,,涉及到運(yùn)輸環(huán)節(jié),所以決定了它的整機(jī)尺寸不能太大,。而我們不需要考慮外觀尺寸的問(wèn)題,,能滿足需求即可。

清華大學(xué)的這個(gè)SSMB-EUV光源,,功率達(dá)到了10千瓦,,是ASML EUV光源250瓦功率的40倍,能夠同時(shí)支持?jǐn)?shù)十臺(tái)光刻機(jī),,換句話說(shuō),,一個(gè)大型的EUV光刻機(jī)工廠出現(xiàn)了。想象那個(gè)畫面,,都挺美好的,。對(duì)此,有網(wǎng)友評(píng)論的非常有趣,,由步槍變成了機(jī)關(guān)槍,還有網(wǎng)友說(shuō)這哪是光刻機(jī),,這是光刻炮?。?/p>

這個(gè)大型裝置首先是利用高重頻微波電子槍產(chǎn)生一串電子束,,長(zhǎng)度百納秒量級(jí),。產(chǎn)生的電子束將在一段直線加速腔中被加速到約400 MeV,此時(shí)的電子束是脈沖分布的,,間隔為加速所用微波的周期(約10 cm),。之后將這些電子束團(tuán)注入到展束環(huán)中對(duì)束團(tuán)進(jìn)行縱向的拉伸,使電流分布由梳狀得到展平,,得到在縱向上均勻分布的準(zhǔn)連續(xù)束團(tuán),。之后將該束團(tuán)從展束環(huán)引出,注入到SSMB主環(huán)中進(jìn)行儲(chǔ)存,,在主環(huán)中,,電子束由于激光調(diào)制器的聚束作用并在量子激發(fā)和輻射阻尼平衡下保持微聚束狀態(tài), 束長(zhǎng)在數(shù)十納米量級(jí),。該微聚束在輻射段被進(jìn)一步壓縮到3nm左右,,實(shí)現(xiàn)波長(zhǎng)13.5nm的強(qiáng)相干輻射,從而輸出千瓦量級(jí)的EUV光,。

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另外,,SSMB-EUV光源并不是現(xiàn)在才有的,,早在2021年年初,相關(guān)的論文就發(fā)表在了世界頂級(jí)學(xué)術(shù)期刊《自然》上,。

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并且根據(jù)今年年初官方的消息,,SSMB-EUV光源落戶雄安。

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其實(shí)早期的極紫外光也是靠大型電子加速器獲取的,,但是為了將EUV光刻機(jī)商品化,,所以對(duì)EUV光源進(jìn)行了小型化改造,所以其技術(shù)難度也很高,。

當(dāng)然,,有了SSMB-EUV光源,不意味著傳統(tǒng)的EUV光源我們就不搞了,。例如,,頭一段時(shí)間,長(zhǎng)春光機(jī)所公開了一批省科技獎(jiǎng)提名項(xiàng)目,,其中有五項(xiàng)是與光刻機(jī)有關(guān),,并且大部分都跟EUV光刻機(jī)有關(guān),包括極紫外光光刻機(jī)光學(xué)技術(shù),??梢姡覈?guó)在EUV光源領(lǐng)域已經(jīng)取得了不少突破,。

多種技術(shù)方向齊頭并進(jìn),,這也是我們的傳統(tǒng),哪個(gè)先完成,,哪個(gè)技術(shù)先進(jìn),、成本可靠、效率高,,就先用哪個(gè),。

總之,SSMB-EUV光源這個(gè)方案極具創(chuàng)新性,,把極紫外光光源變成了類似發(fā)電廠發(fā)出來(lái)的電,,天然氣公司輸送的天然氣,供暖企業(yè)提供的熱水,,把這些資源變成了一種原材料,,根據(jù)自己的需求購(gòu)買,極大的降低了EUV光刻機(jī)的復(fù)雜性,,有效降低了技術(shù)難度,,好處多多,。

不管怎樣,,從多種線索來(lái)看,有網(wǎng)友表示的國(guó)產(chǎn)EUV光刻機(jī)也快了,,看來(lái)絕非空穴來(lái)風(fēng)。不論是ASML的DUV光刻機(jī)還是EUV光刻機(jī),,都是西方按照他們的邏輯,、技術(shù)去實(shí)現(xiàn)的。不意味著,,我們一定要走他們走過(guò)的路,,這時(shí),中國(guó)人所具備的聰明特質(zhì),,就發(fā)揮作用了,。

所以,還是那句話,,千萬(wàn)別再用西方的過(guò)往經(jīng)驗(yàn)套用在中國(guó)身上,,真的不適用。那么接下來(lái),,就讓我們等待更多國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的好消息吧,。

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