《電子技術(shù)應(yīng)用》
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美光計(jì)劃部署納米印刷技術(shù)以降低DRAM芯片生產(chǎn)成本

2024-03-06
來(lái)源:IT之家
關(guān)鍵詞: 美光 DRAM 納米印刷技術(shù) 2nm

3 月 5 日消息,,美光科技公司計(jì)劃率先支持佳能的納米印刷技術(shù),從而進(jìn)一步降低生產(chǎn) DRAM 存儲(chǔ)芯片的單層成本。

美光公司近日舉辦了一場(chǎng)演講,,介紹在將納米印刷技術(shù)應(yīng)用于 DRAM 生產(chǎn)的一些細(xì)節(jié),。美光在演講中表示 DRAM 節(jié)點(diǎn)和沉浸式光刻分辨率問(wèn)題,,名為“Chop”的層數(shù)量不斷增加,,這就意味著添加更多的曝光步驟,來(lái)取出密集存儲(chǔ)器陣列外圍的虛假結(jié)構(gòu)(dummy structures),。

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美光公司表示由于光學(xué)系統(tǒng)本身性質(zhì),,這些 DRAM 層的圖案很難用光學(xué)光刻技術(shù)進(jìn)行印刷,而納米打印方式可以用更精細(xì)的方式打印出來(lái),,且鑒于納米印刷技術(shù)應(yīng)用成本是沉浸式光刻技術(shù)的五分之一,,因此是非常不錯(cuò)的解決方案。

納米印刷技術(shù)并不能在內(nèi)存芯片生產(chǎn)的所有階段取代傳統(tǒng)的光刻技術(shù),,兩者并非純粹的競(jìng)爭(zhēng)關(guān)系,,但該技術(shù)至少可以降低單個(gè)技術(shù)操作的成本。

IT之家此前報(bào)道,,佳能 2023 年 10 月公布 FPA-1200NZ2C 納米壓印光刻(NIL)半導(dǎo)體設(shè)備,。佳能社長(zhǎng)御手洗富士夫表示,納米壓印光刻技術(shù)的問(wèn)世,,為小型半導(dǎo)體制造商生產(chǎn)先進(jìn)芯片開(kāi)辟了一條新的途徑,。

佳能半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)務(wù)經(jīng)理巖本和德表示,納米壓印光刻是指將帶有半導(dǎo)體電路圖案的掩模壓印在晶圓上,,只需一個(gè)印記,,就可以在適當(dāng)?shù)奈恢眯纬蓮?fù)雜的 2D 或 3D 電路圖案,因此只需要不斷改進(jìn)掩模,甚至能生產(chǎn) 2nm 芯片,。


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