6 月 18 日消息,日本三井化學(xué)擁有荷蘭阿斯麥(ASML Holding NV)授權(quán)的 EUV 光罩生產(chǎn)業(yè)務(wù),,并于 2021 年開始在其巖國大竹工廠商業(yè)化生產(chǎn) EUV 光罩,,從而成為該行業(yè)的全球領(lǐng)導(dǎo)者。
三井化學(xué)宣布將在其巖國大竹工廠設(shè)立碳納米管 (CNT) 薄膜生產(chǎn)線,,開始量產(chǎn)半導(dǎo)體最尖端光刻機(jī)的零部件產(chǎn)品(保護(hù)半導(dǎo)體電路原版的薄膜材料“Pellicle”的新一代產(chǎn)品),。
三井化學(xué)預(yù)期年產(chǎn)能力為 5000 張,生產(chǎn)線預(yù)計(jì)于 2025 年 12 月完工,,可用于荷蘭 ASML 將推出的下一代高數(shù)值孔徑,、高輸出 EUV 光刻機(jī)提供支持。
光掩模防塵薄膜(pellicle)用于保護(hù)光掩模的清潔,,需要高透光率以及長壽命,。三井化學(xué) 2023 年與比利時(shí)微電子研究中心(imec)合作,將共同推進(jìn) EUV 碳納米管光掩模薄膜(pellicle)技術(shù)商業(yè)化,。
那么問題來了,,什么是 CNT 薄膜呢?要介紹新材料IT之家這里還需要帶大家先了解一下新 EUV 光刻機(jī)的能力和需求,。
簡單來說,,下一代 EUV 光刻技術(shù)對(duì)高數(shù)值孔徑(NA 值 0.55)、高輸出功率 (600W 及更高) 工藝的需求尤其顯著,,而由新材料制成的薄膜對(duì)于承受“能實(shí)現(xiàn)此技術(shù)所需的苛刻光刻環(huán)境”至關(guān)重要,。
▲ EUV 防護(hù)薄膜
為此,三井化學(xué)開發(fā)出了新款 CNT 薄膜并決定進(jìn)行量產(chǎn),。據(jù)介紹,,采用碳納米管(CNT)材料制造的薄膜,與以往產(chǎn)品相比大幅提高了強(qiáng)度和光的透射率,,具有極高的 EUV 透光率(≥94%),。此外,碳納米管顆粒還能夠承受超過 1kW 的 EUV 功率,,從而滿足未來新一代光刻機(jī)的需求,。
▲ 碳納米管薄膜
三井化學(xué)希望通過在其產(chǎn)品線中添加使用 CNT 作為膜材料的新一代防護(hù)薄膜產(chǎn)品,,以及使用硅基膜制成的傳統(tǒng) EUV 防護(hù)薄膜,從而有幫助 ASML 提高半導(dǎo)體性能和生產(chǎn)率,。