針對9月6日荷蘭宣布將擴大光刻機的管制范圍一事,商務部近日在發(fā)布會上對此進行了回應。
商務部發(fā)言人指出,,近來,中荷雙方就半導體出口管制問題開展了多層級,、多頻次的溝通磋商,。荷方在2023年半導體出口管制措施的基礎上,進一步擴大對光刻機的管制范圍,,中方對此表示不滿,。
近年來,,美國為維護自身全球霸權,不斷泛化國家安全概念,,脅迫個別國家加嚴半導體及設備出口管制措施,,嚴重威脅全球半導體產業(yè)鏈供應鏈穩(wěn)定,嚴重損害相關國家和企業(yè)正當權益,,中方對此堅決反對,。
商務部發(fā)言人表示,荷方應從維護國際經貿規(guī)則及中荷經貿合作大局出發(fā),,尊重市場原則和契約精神,,避免有關措施阻礙兩國半導體行業(yè)正常合作和發(fā)展,不濫用出口管制措施,,切實維護中荷企業(yè)和雙方共同利益,,維護全球半導體產業(yè)鏈供應鏈穩(wěn)定。
此前報道:荷蘭政府宣布擴大對先進半導體制造設備的出口管制措施,,即從 9 月 7 日起,,更多類型的半導體制造設備將受到國家授權要求的限制。這一措施規(guī)定,,從現在起,,公司在出口此類先進制造設備時必須申請授權,政府將根據具體情況對申請進行評估,,因此這并不是一項出口禁令,,措施適用于從荷蘭出口到歐盟以外的目的地。對于這一措施,,荷蘭光刻機巨頭阿斯麥回應稱,,根據更新的許可證要求,阿斯麥將需要向荷蘭政府而不是美國政府申請 TWINSCAN NXT:1970i 和 1980i 浸沒式 DUV 光刻機的出口許可證,。TWINSCAN NXT:2000i 及其后的浸沒式 DUV 系統已經有了荷蘭出口許可證要求,。阿斯麥 EUV 系統的銷售也受許可證要求的限制。阿斯麥表示,,由于這是一項技術性變更,,預計不會對公司 2024 年的財務前景或長期方案產生任何影響。