《電子技術(shù)應(yīng)用》
您所在的位置:首頁(yè) > EDA與制造 > 設(shè)計(jì)應(yīng)用 > 3D設(shè)計(jì)技術(shù)在SiP中的應(yīng)用
3D設(shè)計(jì)技術(shù)在SiP中的應(yīng)用
2018年電子技術(shù)應(yīng)用第9期
李 揚(yáng)
奧肯思科技有限公司,,北京100045
摘要: SiP(System-in-Package)系統(tǒng)級(jí)封裝技術(shù)是最新的微電子封裝和系統(tǒng)集成技術(shù),,目前已成為電子技術(shù)發(fā)展的熱點(diǎn)。SiP最鮮明的特點(diǎn)就是在封裝中采用了3D(Three Dimensions)技術(shù),通過(guò)3D技術(shù),可以實(shí)現(xiàn)更高的系統(tǒng)集成度,在更小的面積內(nèi)封裝更多的芯片。從設(shè)計(jì)角度出發(fā),介紹了應(yīng)用在SiP中的3D設(shè)計(jì)技術(shù),,包括3D基板設(shè)計(jì)技術(shù)和3D組裝設(shè)計(jì)技術(shù),闡述了3D設(shè)計(jì)的具體思路和方法,,可供工程師在設(shè)計(jì)3D SiP時(shí)參考,。
中圖分類號(hào): TN603.5
文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼: A
DOI:10.16157/j.issn.0258-7998.175196
中文引用格式: 李揚(yáng). 3D設(shè)計(jì)技術(shù)在SiP中的應(yīng)用[J].電子技術(shù)應(yīng)用,2018,44(9):39-43.
英文引用格式: Li Yang. The application of 3D design technologies in SiP[J]. Application of Electronic Technique,,2018,,44(9):39-43.
The application of 3D design technologies in SiP
Li Yang
AcconSys Technology Co.,Ltd.,,Beijing 100045,,China
Abstract: SiP(System-in-Package) is the latest microelectronic packaging and system integration technology, now it has become a hot spot in the development of electronic technology. The most distinctive feature of SiP is the use of 3D(Three Dimensions) technology in package. Through 3D technology, we can achieve higher system integration and package more chips in a smaller area. From the design point of view, this paper sets forth the 3D design technology applied in SiP, including 3D substrate design technology and 3D assembly design technology, and expounds the specific ideas and methods of 3D design, which can be used for reference by engineers in designing 3D SiP.
Key words : system-in-package;3D SiP,;3D design technology,;3D substrate design;3D assembly design

0 引言

    SiP(System-in-Package)系統(tǒng)級(jí)封裝技術(shù)已成為當(dāng)前電子技術(shù)發(fā)展的熱點(diǎn),,受到來(lái)自多個(gè)領(lǐng)域的關(guān)注,。

    這些關(guān)注者包括傳統(tǒng)的封裝設(shè)計(jì)者,也包括傳統(tǒng)的MCM設(shè)計(jì)者,,更多來(lái)源于傳統(tǒng)的PCB設(shè)計(jì)者,,甚至SoC的設(shè)計(jì)者也開(kāi)始密切關(guān)注SiP[1]

    傳統(tǒng)的封裝設(shè)計(jì)者通過(guò)SiP技術(shù)使得封裝的功能多樣化和系統(tǒng)化,,MCM設(shè)計(jì)者將原有的二維平面化的MCM升級(jí)為3D立體化的SiP,,PCB設(shè)計(jì)者通過(guò)SiP技術(shù)使系統(tǒng)盡可能地小型化,并且在功耗和性能上也取得一定的進(jìn)步,,SoC設(shè)計(jì)者則通過(guò)SiP技術(shù)作為SoC的低成本和快捷替代方案。

    SiP系統(tǒng)級(jí)封裝有兩個(gè)關(guān)鍵字:“系統(tǒng)”和“封裝”,,系統(tǒng),,是指能完成獨(dú)立的一種或多種功能,由相互作用相互依賴的若干組成部分結(jié)合而成,,具有特定功能的有機(jī)整體,。系統(tǒng)能獨(dú)立完成一定的功能,系統(tǒng)又是它從屬的更大系統(tǒng)的組成部分,。封裝,,就是把集成電路裸片(Die)放在承載體上,把管腳引出來(lái),,然后固定包裝成為一個(gè)整體,。封裝的3個(gè)主要功能是:保護(hù)裸芯片、尺度放大,、電氣連接[2],。

    SiP系統(tǒng)級(jí)封裝則是通過(guò)封裝的形式來(lái)實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)功能的有機(jī)整體,并對(duì)系統(tǒng)內(nèi)的多顆裸芯片進(jìn)行保護(hù),,尺度放大,,電氣連接。這里的電氣連接比普通封裝多了一層含義,除了將裸芯片和封裝外部電路進(jìn)行電氣連接之外,,SiP還承擔(dān)著對(duì)內(nèi)部芯片之間的電氣互聯(lián),,這就使得SiP和普通封裝有兩大重要區(qū)別。(1)因?yàn)檫B接關(guān)系的復(fù)雜性,,SiP通常需要原理圖,,而普通封裝則可以通過(guò)網(wǎng)絡(luò)表傳遞連接關(guān)系;(2)因?yàn)閮?nèi)部芯片互聯(lián)的復(fù)雜性,,SiP一定需要基板Substrate,,而普通封裝不一定需要基板,當(dāng)然,,現(xiàn)在比較復(fù)雜的單芯片封裝一般也是需要基板的[3],。

    現(xiàn)在大家談及SiP,多從封裝工藝的角度入手,,往往淡化了系統(tǒng)本身能實(shí)現(xiàn)的功能,。實(shí)際上,一款SiP能否取得成功并被市場(chǎng)認(rèn)可,,系統(tǒng)功能的定義是最重要的,。系統(tǒng)功能定義包括了需要采用的各個(gè)芯片的功能,以及SiP系統(tǒng)最終能夠完成的各種任務(wù),。系統(tǒng)功能定義好了,,后面就是如何實(shí)現(xiàn)的問(wèn)題了,這是本文要著重?cái)⑹龅摹?/p>

    本文作者這些年一直參與和指導(dǎo)國(guó)內(nèi)各種類型的SiP項(xiàng)目,,在不同的SiP項(xiàng)目中,,采用了多種設(shè)計(jì)技術(shù),深刻地體會(huì)到了不同的設(shè)計(jì)思路和技術(shù)帶給項(xiàng)目的巨大差異,,而3D設(shè)計(jì)技術(shù)則是SiP設(shè)計(jì)中區(qū)別于傳統(tǒng)封裝最為典型的,,覺(jué)得很有必要把3D設(shè)計(jì)的思路和方法介紹給SiP設(shè)計(jì)者,使設(shè)計(jì)者在SiP項(xiàng)目一開(kāi)始就能心中有數(shù),,并采用正確的設(shè)計(jì)思路和方法,。

1 3D設(shè)計(jì)技術(shù)

    3D設(shè)計(jì)是SiP設(shè)計(jì)中區(qū)別于傳統(tǒng)封裝設(shè)計(jì)最為典型的設(shè)計(jì)技術(shù)。

    傳統(tǒng)的封裝設(shè)計(jì)或者PCB設(shè)計(jì),,通常從2D的角度去考慮,,其設(shè)計(jì)環(huán)境也多是2D環(huán)境,設(shè)計(jì)師從頂視圖的角度去觀察和操作設(shè)計(jì)圖紙,,一般只關(guān)注X,、Y方向的規(guī)則定義和布局、鍵合,、布線,、覆銅等操作,。

    SiP則不同,為了在最小的面積內(nèi)封裝SiP系統(tǒng)中所需要的所有芯片,,僅僅考慮X,、Y方向是遠(yuǎn)遠(yuǎn)不夠的。這時(shí)候,,Z軸方向的考慮則帶給了設(shè)計(jì)師廣闊的設(shè)計(jì)空間,,3D設(shè)計(jì)技術(shù)也應(yīng)運(yùn)而來(lái)。

    從實(shí)際項(xiàng)目的經(jīng)驗(yàn)和工藝流程的特點(diǎn),,將3D設(shè)計(jì)技術(shù)分為兩部分來(lái)闡述,,分別是3D基板設(shè)計(jì)技術(shù)和3D組裝設(shè)計(jì)技術(shù)。

2 3D基板設(shè)計(jì)技術(shù)

    一般的PCB板和普通的封裝基板通常是二維設(shè)計(jì),。

    目前最常見(jiàn)的基板是通過(guò)通孔連接的多層基板,,這種基板結(jié)構(gòu)比較簡(jiǎn)單,采用Laminate層壓法制作,,即制作出每一層的導(dǎo)線或覆銅圖形后,,將多層壓合在一起,然后進(jìn)行鉆孔和孔金屬化[4],。

    這種技術(shù)比較成熟,,已經(jīng)應(yīng)用很多年,目前還存在廣泛的應(yīng)用,,尤其是在設(shè)計(jì)密度不高的PCB中應(yīng)用廣泛,。在國(guó)內(nèi)軍工和航空航天等行業(yè)的項(xiàng)目應(yīng)用上,由于行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)和規(guī)范的要求,,目前主流的PCB還是采用通孔互聯(lián),。

2.1 高密度互聯(lián)HDI

    隨著設(shè)計(jì)復(fù)雜程度提高,基板上的布線密度越來(lái)越高,,傳統(tǒng)的通孔工藝已經(jīng)無(wú)法滿足要求,出現(xiàn)了微孔和盲埋孔結(jié)合的工藝技術(shù),,稱之為高密度互聯(lián)[5],。

    高密度互連HDI(High Density Interconnector)是生產(chǎn)封裝基板或者PCB印制板的一種技術(shù),HDI一般采用Buildup+Laminate結(jié)構(gòu),,一般為N+M+N層,。其中M代表Laminate層,采用機(jī)械鉆孔工藝,,線寬和線間距及孔徑相對(duì)較大,;N層為Buildup層,使用激光微孔工藝,,提供更高精度的布線,,同時(shí)孔比較小,不占用太多的布線空間,進(jìn)一步提高了布線密度,。

    Laminate通常被稱為層壓法,,是指對(duì)每一層圖形處理完成后,將多層基板壓合到一起,,然后再進(jìn)行打孔和孔金屬化,,因?yàn)椴捎玫氖菣C(jī)械打孔,所以孔徑較大,,打孔效率也不高,,但可以多層疊加后打孔,以提高打孔效率[6],。Buildup通常被稱為積層法,,是指對(duì)每一層圖形處理完成后,先打孔,,做孔金屬化,,然后在此基礎(chǔ)上再累加一層,做圖形處理,、打孔,、孔金屬化,這種工藝采用激光打孔,,打孔效率比較高,,但通常只能打一層,為了縮短激光打孔時(shí)間,,Buildup的介質(zhì)一般比較薄,,通常也比較軟,一般選擇樹(shù)脂含量較高的106,、1080等半固化片,。

    圖1是一個(gè)典型的2+4+2結(jié)構(gòu)的8層HDI基板截面圖。信號(hào)從第1層傳遞到第8層需要通過(guò)1-2的盲孔,,2-3的埋孔,,3-6的埋孔,6-7的埋孔以及7-8的盲孔,,雖然穿越的孔數(shù)量多,,但因?yàn)榭锥急容^短小,所以其疊加造成的寄生效應(yīng)反而比1-8通孔的寄生效應(yīng)小,。

wdz2-t1.gif

    目前,,此種結(jié)構(gòu)的HDI工藝非常成熟,廣泛應(yīng)用于手機(jī),、數(shù)碼相機(jī)等電子產(chǎn)品中,。

2.2 腔體技術(shù)

    HDI技術(shù)大大提高了SiP基板的布線密度,,然而隨著基板表面安裝器件的增多,基板的面積無(wú)法再縮小,,同時(shí),,隨著大規(guī)模數(shù)字電路芯片的應(yīng)用,其Bond Wire通常會(huì)占用3~4排的Bond Pad空間,,多重鍵合也帶來(lái)了Bond Wire之間復(fù)雜的關(guān)系,,以及外層Bond Wire過(guò)長(zhǎng)而造成金絲塌陷。

    腔體Cavity作為陶瓷封裝中最常見(jiàn)的一種基本的基板工藝,,受到越來(lái)越多的重視,。目前,隨著技術(shù)的改進(jìn),,在許多塑封基板中也開(kāi)始使用腔體,,如最新的龍芯CPU塑封基板就采用了腔體結(jié)構(gòu)。

    腔體是一種3D立體結(jié)構(gòu),,為了真實(shí)地模擬腔體結(jié)構(gòu),,需要軟件對(duì)3D立體結(jié)構(gòu)有良好的支持。腔體Cavity是在基板上開(kāi)的一個(gè)孔槽,,通常不會(huì)穿越所有的板層(特殊情況下的通腔稱之為Contour),。腔體可以是開(kāi)放式的,也可以是密閉在基板內(nèi)層空間的腔體,,腔體可以是單階腔體也可以是多階腔體,,所謂多階腔體就是在一個(gè)腔體的內(nèi)部再挖腔體,逐級(jí)縮小,,如同城市中的下沉廣場(chǎng)一樣[3],。圖2是SiP基板中的各種腔體結(jié)構(gòu)。

wdz2-t2.gif

    圖3是各種腔體在SiP設(shè)計(jì)軟件中的3D截圖,。

wdz2-t3.gif

    通過(guò)腔體,,芯片可以埋置在基板內(nèi)部,節(jié)省表面安裝空間,。

    芯片安放在開(kāi)放式腔體中,,大致有以下3種原因:

    (1)腔體結(jié)構(gòu)有利于鍵合線的穩(wěn)定性,對(duì)于復(fù)雜芯片或者芯片堆疊,,常常要采用多層鍵合線,鍵合線的排列經(jīng)常有3~4排,,這樣外層鍵合線就會(huì)很長(zhǎng),,跨度很大,不利于鍵合線的穩(wěn)定性,,而腔體結(jié)構(gòu)則能有效改善這種問(wèn)題,,如圖4所示,。

wdz2-t4.gif

    (2)腔體結(jié)構(gòu)有利于陶瓷封裝的密封,采用腔體結(jié)構(gòu)的陶瓷基板,,芯片和鍵合線均位于腔體內(nèi)部,,只需要用密封蓋板將SiP封裝密封即可。如果無(wú)腔體結(jié)構(gòu),,則需要專門(mén)焊接金屬框架來(lái)抬高蓋板的位置,,這樣就多了一道焊接工序,其焊縫的氣密性也需要經(jīng)過(guò)嚴(yán)格考核才能達(dá)到要求,。

    (3)腔體有利于SiP雙面安裝器件?,F(xiàn)在的SiP復(fù)雜程度很高,需要安裝的器件很多,,在基板單面經(jīng)常無(wú)法安裝上所有器件,,需要雙面安裝器件。這時(shí)候,,腔體結(jié)構(gòu)就大有用武之地,,通過(guò)腔體可以將一部分器件安裝在SiP封裝底部的中央,在封裝底部外側(cè)設(shè)計(jì)并植上焊接球,,如圖5所示,。

wdz2-t5.gif

2.3 平面式埋置技術(shù)

    一般情況下,將分立的無(wú)源器件例如電阻,、電容,、電感埋入SiP基板采用兩種技術(shù),一種是前面講到的腔體技術(shù),,另一種是通過(guò)特殊材料在基板中制作出不同形狀的電阻,、電容和電感,從而實(shí)現(xiàn)無(wú)源器件的埋置,。平面式埋置技術(shù)是指將電阻,、電容、電感等無(wú)源元件通過(guò)設(shè)計(jì)和工藝的結(jié)合,,以蝕刻或印刷方法將無(wú)源元件做在基板表層或者內(nèi)層,,用來(lái)取代基板表面需要焊接的無(wú)源元件,從而提高有源芯片的布局空間及布線自由度,,如圖6所示,。

wdz2-t6.gif

    (1)平面式埋置電阻技術(shù)

    平面式埋置電阻技術(shù)通常采用高電阻率的材料,制作成各種形狀和不同電阻值的平面電阻,,目前提供電阻材料主要有DuPont,、Ohmega和TICER的阻性材料,工藝包括厚膜和薄膜兩種工藝,。

    (2)平面式埋置電容技術(shù)

    平面式埋置電容技術(shù)通常采用較大介電常數(shù)的介質(zhì)材料,。其結(jié)構(gòu)類似于平行板電容器,,兩側(cè)是金屬層,中間是高介電常數(shù),、低介質(zhì)損耗的介質(zhì)薄層,,從而提升電容量??蛇x材料為電容材料有3M,、DuPont、Gould和Huntsman等多個(gè)廠家的容性材料,。

    (3)平面式埋置電感技術(shù)

    平面式埋置電感技術(shù)通常采用蝕刻銅箔或者鍍銅形成螺旋,、彎曲等形狀,或者利用層間過(guò)孔形成螺旋多層結(jié)構(gòu),。其特性取決于基材參數(shù)和圖形形狀結(jié)構(gòu),。目前能支持的電感值比較小,僅有幾納亨到幾十納亨,,主要以應(yīng)用在高頻模塊中為主,。

    圖7為平面式埋置電阻、電容,、電感基本結(jié)構(gòu),。

wdz2-t7.gif

    相對(duì)而言,平面埋入電阻結(jié)構(gòu)比較簡(jiǎn)單,,常采用厚膜工藝,,即加工藝,需要在兩個(gè)金屬端子之間印刷出電阻形狀,,目前比較常用的4種形狀是矩形,、大禮帽形、折疊形,、蜿蜒形,,如圖8所示。矩形結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,,最為常見(jiàn),,大禮帽型的突出部分便于進(jìn)行激光調(diào)阻,折疊型占用空間較小,,比較適合阻值較小的印刷電阻,,蜿蜒型則適合阻值較大的印刷電阻。

wdz2-t8.gif

    平面埋置電容結(jié)構(gòu)相對(duì)復(fù)雜,,一般分為交叉指型,、印刷式和夾層式。

    交叉指型電容,其形狀如同兩只手的手指相對(duì)交叉一樣,,作為一個(gè)完整的元件放置在一個(gè)電氣層中,中間填充介質(zhì),。印刷式電容,,其結(jié)構(gòu)為底部?jī)蓧K金屬,分別作為此電容的兩個(gè)端子,。其中一塊面積較大,,上面覆蓋介質(zhì),然后上面再印刷一層導(dǎo)體,,導(dǎo)體一端位于介質(zhì)層上方,,另外一端和面積較小的金屬端子搭接,其有效面積為被介質(zhì)隔開(kāi)的底層金屬和印刷導(dǎo)體所重疊的面積,。夾層式電容,,其結(jié)構(gòu)比較復(fù)雜,包含頂層金屬,、介質(zhì),、底層金屬以及一個(gè)過(guò)孔。圖9為3種平面埋置電容結(jié)構(gòu),。

wdz2-t9.gif

    另外,,還有一種埋置電容的方法就是在整個(gè)介質(zhì)層中加入一層電容層,這種方式工藝相對(duì)簡(jiǎn)單,,請(qǐng)參看圖6中的電容材料層,。

3 3D組裝設(shè)計(jì)技術(shù)

3.1 芯片堆疊技術(shù)

    在SiP設(shè)計(jì)中,為了最大范圍地節(jié)省空間,,縮小基板的面積,,經(jīng)常會(huì)采用芯片堆疊設(shè)計(jì),將多個(gè)芯片堆疊在一起,,中間插入介質(zhì)或采用特殊工藝進(jìn)行電氣隔離,。按照堆疊形式,主要分為金字塔型堆疊,、懸臂型堆疊和并排堆疊3類,。

    金字塔型芯片堆疊,是指按照從大到小的順序依次堆疊,,其中最底層的芯片可為鍵合芯片Bond Wire Die,,也可是倒裝焊芯片F(xiàn)lip Chip Die,如圖10所示,。

wdz2-t10.gif

    懸臂型堆疊,,在芯片堆疊設(shè)計(jì)中,經(jīng)常會(huì)需要將同樣大小的芯片或不同形狀的芯片進(jìn)行堆疊,,這時(shí)候就不可避免地用到懸臂型堆疊,,堆疊中須插入一定厚度的介質(zhì),,用以墊高上層芯片,避免影響下層芯片的Bond Wire,。其加工方法則是從下往上,,堆疊一層鍵合一層,然后再堆疊,,再鍵合,,以此類推,如圖11所示,。

wdz2-t11.gif

    并排堆疊,,在芯片堆疊設(shè)計(jì)中,有一種情況是兩個(gè)或者多個(gè)小的芯片并排堆疊在某個(gè)大芯片的上方,,即多個(gè)芯片位于堆疊的同一個(gè)平面,,中間需插入轉(zhuǎn)接板,上層芯片先通過(guò)鍵合或者倒裝焊形式將信號(hào)連接到轉(zhuǎn)接板,,然后通過(guò)轉(zhuǎn)接板再次鍵合,,將信號(hào)引到SiP基板,如圖12所示,。

wdz2-t12.gif

3.2 TSV技術(shù)

    硅通孔TSV(Through Silicon Via)正成為SiP 3D組裝的一種新方法,,即在芯片的周邊進(jìn)行通孔,然后進(jìn)行芯片或晶圓的堆疊,,為設(shè)計(jì)人員提供了比引線鍵合和倒裝芯片堆疊更自由,、更高的密度和空間利用率。與Wire Bonding的芯片堆疊技術(shù)不同,,TSV能夠使芯片在三維方向堆疊的密度最大,,外形尺寸最小,并且大大改善芯片速度和降低功耗,。TSV被稱為繼Wire Bonding,、TAB和FlipChip之后的第四代封裝技術(shù)[3]

    目前,,TSV的應(yīng)用主要包括芯片直接互聯(lián)和硅轉(zhuǎn)接板互聯(lián),。

    芯片上的TSV-1,在這里把在裸芯片上直接打孔的TSV稱之為I型TSV,,簡(jiǎn)稱TSV-1,。

    在TSV-1中,多個(gè)垂直堆疊的芯片通過(guò)穿過(guò)芯片堆疊的垂直孔互連,,如圖13所示,。

wdz2-t13.gif

    轉(zhuǎn)接板上的TSV-2,前文提到,在進(jìn)行并排堆疊的時(shí)候,,需要用到轉(zhuǎn)接板,,這種轉(zhuǎn)接板目前應(yīng)用比較多的是硅基板,通過(guò)在硅基板上進(jìn)行布線并打孔,,硅基板上下層均可布線,,并通過(guò)在硅基板上的通孔將上下層的布線連接起來(lái),這種穿透硅基板的通孔也被稱之為T(mén)SV,,這里稱之為II型TSV,簡(jiǎn)稱TSV-2,,如圖14所示,。

wdz2-t14.gif

    目前TSV-2在SiP中應(yīng)用也非常普遍,主要應(yīng)用硅基板的高密度特性,,提高布線的互聯(lián)密度,。

3.3 PoP封裝堆疊

    PoP(Package on Package)將超薄的小管腳間距球柵陣列(BGA)封裝堆疊起來(lái),并裝配到表面,。如圖15所示,,這些BGA封裝經(jīng)過(guò)特殊的設(shè)計(jì),能夠通過(guò)一個(gè)靈活,、但仍算標(biāo)準(zhǔn)的結(jié)構(gòu)來(lái)實(shí)現(xiàn)邏輯器件與存儲(chǔ)器件等的互連[3],。

wdz2-t15.gif

    PoP可以作為3D SiP技術(shù)一個(gè)有效且實(shí)用的補(bǔ)充,目前在手機(jī)等電子產(chǎn)品中應(yīng)用廣泛,。

4 結(jié)論

    3D技術(shù)是SiP系統(tǒng)級(jí)封裝中最典型也是最具特色的技術(shù),,本文從設(shè)計(jì)的角度出發(fā),將3D設(shè)計(jì)技術(shù)分為3D基板設(shè)計(jì)技術(shù)和3D組裝設(shè)計(jì)技術(shù),。

    首先講述了通過(guò)HDI高密度互聯(lián)技術(shù)提高基板布線密度,,然講述了通過(guò)基板腔體實(shí)現(xiàn)芯片的靈活安裝,例如通過(guò)底部腔體,,在SiP基板下方安裝芯片,,而不影響SiP封裝在PCB上的安裝。

    在平面式埋置技術(shù)中,,講述了如何通過(guò)不同的材料和工藝,,實(shí)現(xiàn)在基板內(nèi)部埋置電阻、電容,、電感等無(wú)源器件,。

    在3D組裝設(shè)計(jì)技術(shù)中,也從設(shè)計(jì)的角度講述了芯片堆疊,,包括金子塔形堆疊,、懸臂型堆疊和并排堆疊。隨后講述了兩種形式的TSV技術(shù),TSV-1是在芯片上直接進(jìn)行打孔和互聯(lián),,TSV-2是在硅轉(zhuǎn)接板上進(jìn)行打孔和互聯(lián),。

    最后,結(jié)合3D基板設(shè)計(jì)技術(shù)和3D組裝設(shè)計(jì)技術(shù),,可以得到一幅在SiP設(shè)計(jì)中可能用到的3D技術(shù)全圖,,如圖16所示。

wdz2-t16.gif

    另外,,PoP技術(shù)以封裝進(jìn)行堆疊,,也是對(duì)3D SiP組裝技術(shù)的有效補(bǔ)充。SiP項(xiàng)目設(shè)計(jì)師或者項(xiàng)目負(fù)責(zé)人可根據(jù)SiP項(xiàng)目的實(shí)際情況,,合理選擇不同的3D設(shè)計(jì)技術(shù)的組合,,設(shè)計(jì)出一款成功的SiP產(chǎn)品。

參考文獻(xiàn)

[1] 李揚(yáng).SiP系統(tǒng)級(jí)封裝設(shè)計(jì)仿真技術(shù)[J].電子技術(shù)應(yīng)用,,2017,,43(7):47-50,54.

[2] Li Yang.SiP System-in-Package design and simulation—Mentor EE flow advanced design guide[M].WILEY,,2017.

[3] 李揚(yáng),,劉楊.SiP系統(tǒng)級(jí)封裝設(shè)計(jì)與仿真—Mentor Expedition Enterprise Flow高級(jí)應(yīng)用指南[M].北京:電子工業(yè)出版社,2012.5.

[4] TUMMALA R R,,SWAMINATHAN M.系統(tǒng)級(jí)封裝導(dǎo)論——整體系統(tǒng)微型化[M].北京:化學(xué)工業(yè)出版社,,2014.

[5] Mentor Graphics.Advanced Packaging Guide,Release X-ENTP VX.2[Z].2016.

[6] GARROU P E,,TURLIK L.多芯片組件技術(shù)手冊(cè)[M].王傳聲,,葉天培,等,,譯.北京:電子工業(yè)出版社,,2006.



作者信息:

李  揚(yáng)

(奧肯思科技有限公司,北京100045)

此內(nèi)容為AET網(wǎng)站原創(chuàng),,未經(jīng)授權(quán)禁止轉(zhuǎn)載,。