文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼: A
DOI:10.16157/j.issn.0258-7998.180729
中文引用格式: 杜濤,蔡紅艷,,梁科,,等. 一種新型帶隙基準(zhǔn)源設(shè)計(jì)[J].電子技術(shù)應(yīng)用,2018,,44(11):9-12,16.
英文引用格式: Du Tao,,Cai Hongyan,,Liang Ke,et al.Design of a novel bandgap reference[J]. Application of Electronic Technique,,2018,,44(11):9-12,16.
0 引言
基準(zhǔn)電路廣泛應(yīng)用于模擬,、數(shù)字及混合電路之中,,它們?yōu)殡娐穯卧峁┗酒茫娐吩O(shè)計(jì)中常使用帶隙電路產(chǎn)生所需要的基準(zhǔn)電壓[1],。傳統(tǒng)的帶隙基準(zhǔn)采用一階補(bǔ)償方法,,溫度系數(shù)(Temperature Coefficient,TC)很難降低到20 ppm/℃以下,。但是在高精度模數(shù)轉(zhuǎn)換器,、晶振電路、運(yùn)算放大器和鎖相環(huán)等應(yīng)用電路中,,對(duì)基準(zhǔn)的穩(wěn)定性提出了更高的要求,,進(jìn)一步降低基準(zhǔn)電壓的溫度系數(shù)始終是基準(zhǔn)電路的重點(diǎn)研究方向[2]。為了在傳統(tǒng)一階補(bǔ)償?shù)幕A(chǔ)上進(jìn)一步改善電壓基準(zhǔn)的溫度系數(shù),,需要考慮消除電路中存在的非線性誤差項(xiàng),。
1 傳統(tǒng)帶隙基準(zhǔn)的原理分析
傳統(tǒng)帶隙基準(zhǔn)是基于正溫度系數(shù)電壓同負(fù)溫度系數(shù)電壓按比例相加抵消溫度相關(guān)項(xiàng),從而得到一個(gè)近似與溫度無(wú)關(guān)的基準(zhǔn)電壓[3],,如圖1所示,。
MP1、MP2和MP3具有相同的寬長(zhǎng)比,,Q1和Q2是與標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝兼容的PNP型三極管,,Q1的發(fā)射結(jié)面積是Q2的n倍。若IC表示集電極電流,,IS表示正向偏置時(shí)三極管的飽和電流,,則流過(guò)Q1和Q2的集電極電流IC1=IC2,飽和電流IS1=nIS2,。PNP型三極管的發(fā)射極-基極電壓VEB通??梢员硎緸椋?/p>
其中kT/q=VT表示熱電壓,,k為玻爾茲曼常數(shù),T為熱力學(xué)溫度,,q表示電荷量的大小,,同時(shí)此處忽略了厄利電壓的影響,通常VEB具有負(fù)溫度特性,,即與熱力學(xué)溫度呈互補(bǔ)關(guān)系(Complementary To Absolute Temperature,,CTAT)[4]。運(yùn)放輸入端的電壓VX=VY,,因此流過(guò)電阻R1的電流IR1為:
根據(jù)參考文獻(xiàn)[4]可知,,熱電壓VT的溫度系數(shù)為85 μV/℃,VEB電壓的溫度系數(shù)約為-1.6 mV/℃,,調(diào)整n,、R1、R2就可以得到一個(gè)近似與溫度無(wú)關(guān)的基準(zhǔn)電壓,。傳統(tǒng)帶隙基準(zhǔn)的輸出電壓通常固定在1.2 V左右,,這也限制了一階補(bǔ)償帶隙基準(zhǔn)在低電源電壓條件下的應(yīng)用。同時(shí),,PTAT電壓只能抵消VEB中與溫度相關(guān)的一次項(xiàng),,而CMOS帶隙基準(zhǔn)電路非理想性的原因主要是VEB電壓與溫度有高階依賴(lài)關(guān)系[4]。為了進(jìn)一步降低基準(zhǔn)電壓的溫度系數(shù),,需要添加額外的電路對(duì)VEB中的非線性項(xiàng)進(jìn)行補(bǔ)償,,進(jìn)而提出了本文中的新型電路結(jié)構(gòu)。
2 新型電壓基準(zhǔn)源設(shè)計(jì)
正向偏置時(shí)的VEB電壓不僅包含與溫度相關(guān)的一次項(xiàng),,其中仍含有關(guān)于溫度的非線性項(xiàng),,VEB電壓與溫度的依賴(lài)關(guān)系可以表示為[5]:
式中Vg0表示0 K溫度時(shí)三極管的發(fā)射極-基極電壓,約為1 155 mV[5],;VEB(Tr)表示在參考溫度Tr時(shí)三極管的發(fā)射極-基極電壓,,VEB(Tr)與流過(guò)三極管的電流密度有關(guān);η是與工藝相關(guān)的常數(shù),,常取η=4[6],;m是與三極管集電極電流IC相關(guān)的常數(shù),當(dāng)流過(guò)三極管集電極電流為PTAT電流時(shí)m=1,,當(dāng)流過(guò)集電極的電流近似與溫度無(wú)關(guān)時(shí)m=0[6],。因此,使兩只三極管流過(guò)集電極的電流類(lèi)型不同時(shí),,它們的發(fā)射極-基極的電壓表達(dá)式不同,二者的差可以用于補(bǔ)償VEB中與溫度相關(guān)的非線性項(xiàng),,從而進(jìn)一步改善基準(zhǔn)電壓的溫度特性,。同理,,也可以利用電流補(bǔ)償模式優(yōu)化電壓基準(zhǔn)的溫度特性[7]。
本文提出的基準(zhǔn)電壓電路如圖2所示,,設(shè)三極管Q1~Q3的放大倍數(shù)足夠大,,集電極電流IC近似與發(fā)射極電流IE相等,VB為共柵管提供直流偏置電壓,。
圖2中IPTAT電流大小與式(2)相同,,運(yùn)放OP2使Y、Z兩點(diǎn)的電位相同,,即VZ=VY=VEB2,。電流IC2是PTAT電流,Q2的發(fā)射極-基極電壓VEB2可以表示為:
在參考溫度Tr時(shí),,為保證VEB2(Tr)和VEB3(Tr)設(shè)計(jì)相等,,Q3和Q1發(fā)射結(jié)面積之比x應(yīng)滿足:
綜上所述,INL近似抵消掉VEB中關(guān)于溫度的高階項(xiàng),,提高了基準(zhǔn)的溫度特性,。同時(shí),調(diào)整R3和R4的比值可以在一定范圍內(nèi)改變基準(zhǔn)的輸出電壓,。
為了能夠?qū)崿F(xiàn)電流模式下的高精度曲率補(bǔ)償,,基準(zhǔn)電路中需要電流鏡精確匹配,電流鏡的失配會(huì)導(dǎo)致輸出參考電壓產(chǎn)生一個(gè)較大的誤差[8],。為解決以上問(wèn)題,,該電路采用共源共柵電流鏡結(jié)構(gòu),同時(shí)使用該結(jié)構(gòu)能夠提高基準(zhǔn)電路的電源抑制(Power Supply Rejection,,PSR),。
3 仿真數(shù)據(jù)分析
本文中的電路采用VIS 0.15 μm BCD工藝設(shè)計(jì),利用Spectre軟件對(duì)設(shè)計(jì)電路性能進(jìn)行仿真,。
在電源電壓VDD為1.8 V,,-60 ℃~120 ℃的溫度范圍內(nèi),電壓基準(zhǔn)輸出仿真結(jié)果如圖3所示,。仿真結(jié)果表明,,基準(zhǔn)電壓的平均值為539 mV,電壓變化范圍為136 μV,,溫度系數(shù)TC約為1.40 ppm/℃,。
在不同溫度下,對(duì)電源電壓VDD進(jìn)行直流掃描,,如圖4所示,。在室溫情況下,電源電壓大于1.2 V時(shí),,電路就可以正常工作,。但是,,受三極管發(fā)射結(jié)壓降和MOS管源漏兩端電壓的限制,進(jìn)一步降低該電路的最低工作電壓較難實(shí)現(xiàn),。在環(huán)境溫度為-60 ℃,、27 ℃和120 ℃時(shí),基準(zhǔn)電壓的線性調(diào)整率分別為0.015 2%,、0.001 9%和0.041 9%,。
在tt、ff,、ss三個(gè)不同的工藝角下,,PSR仿真結(jié)果如圖5所示,在頻率為100 Hz時(shí),,輸出基準(zhǔn)電壓的PSR均高于84 dB,,能夠較好地抑制電源波動(dòng)對(duì)基準(zhǔn)電壓的影響。
在室溫條件下,,對(duì)基準(zhǔn)電路的輸出參考電壓進(jìn)行了蒙特卡洛仿真,,500次仿真的統(tǒng)計(jì)結(jié)果如圖6所示。由圖6可知,,基準(zhǔn)電壓的平均值(Mean)為539.168 mV,,標(biāo)準(zhǔn)差(Std Dev)為1.322 5 mV,工藝偏差系數(shù)Std Dev/Mean為0.245%,,該仿真顯示工藝偏差對(duì)基準(zhǔn)電壓分布的影響較小,。
表1是本文提出的電壓基準(zhǔn)電路和部分參考文獻(xiàn)仿真結(jié)果的對(duì)比。從表中數(shù)據(jù)可以看出,,本文設(shè)計(jì)的電路結(jié)構(gòu)在系統(tǒng)電壓波動(dòng),、外界溫度變化時(shí),基準(zhǔn)電壓的穩(wěn)定性更高,。
4 結(jié)論
本文在傳統(tǒng)一階補(bǔ)償?shù)幕A(chǔ)上,,利用三極管發(fā)射極-基極電壓與集電極電流關(guān)系,提出了一種近似補(bǔ)償VEB中與溫度相關(guān)的非線性項(xiàng)的方法,,設(shè)計(jì)了一種與標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝兼容的高精度電壓基準(zhǔn),。基于VIS 0.15 μm BCD工藝,,仿真并驗(yàn)證了該電路結(jié)構(gòu)的可行性,。仿真結(jié)果表明,在-60 ℃~120 ℃范圍內(nèi)該基準(zhǔn)電壓的溫度系數(shù)TC為1.40 ppm/℃,;100 Hz時(shí)的電源抑制達(dá)到84 dB,;蒙特卡洛仿真顯示在環(huán)境溫度為27 ℃時(shí),基準(zhǔn)電壓工藝偏差系數(shù)為0.245%,。
參考文獻(xiàn)
[1] RINCON M G,,ALLEN P E.A 1.1 V current-mode and piecewise-linear curvature-corrected bandgap reference[J].IEEE Journal of Solid-State Circuits,,1998,33(10):1551-1554.
[2] ANDREOU C M,,KOUDOUNAS S,GEORGIOU J.A novel wide-temperature-range, 3.9 ppm/℃ CMOS bandgap reference circuit[J].IEEE Journal of Solid-State Circuits,,2012,,47(2):574-581.
[3] RINCON M G A.Voltage references:from diodes to precision high-order bandgap circuits[M].Wiley-Interscience,2002.
[4] LEE K K,,LANDE T S,,HFLIGER P D.A Sub-μW bandgap reference circuit with an inherent curvature-com pensation property[J].IEEE Transactions on Circuits and Systems I:Regular Papers,2015,,62(1):1-9.
[5] TSIVIDIS Y P.Accurate analysis of temperature effects in Ic-Vbe characteristics with application to bandgap reference sources[J].IEEE Journal of Solid-State Circuits,,1980,15(6):1076-1084.
[6] MEIJER G C M,,SCHMALE P C,,VAN ZALINGE K.A new curvature-corrected bandgap reference[J].IEEE Journal of Solid-State Circuits,1982,,17(6):1139-1143.
[7] GUNAWAN M,,MEIJER G C M,F(xiàn)ONDERIE J,,et al.A curvature-corrected low-voltage bandgap reference[J].IEEE Journal of Solid-State Circuits,,1993,28(6):667-670.
[8] LEUNG K N,,MOK P K T,,LEUNG C Y.A 2-V 23-μA 5.3-ppm/℃ curvature-compensated CMOS bandgap voltage reference[J].IEEE Journal of Solid-State Circuits,2003,,38(3):561-564.
[9] ZHANG K,,WU D.A high performance bandgap voltage reference design[C].2010 2nd International Conference on Information Science and Engineering(ICISE).IEEE,2010:4838-4841.
[10] 李樹(shù)鎮(zhèn),,馮全源.一種CMOS高階曲率補(bǔ)償?shù)膸痘鶞?zhǔn)源電路的設(shè)計(jì)[J].哈爾濱工業(yè)大學(xué)學(xué)報(bào),,2017(10):95-99.
[11] ANDREOU C M,KOUDOUNAS S,,GEORGIOU J.A novel wide-temperature-range, 3.9 ppm/℃ CMOS bandgap reference circuit[J].IEEE Journal of Solid-State Circuits,,2012,47(2):574-581.
作者信息:
杜 濤1,,蔡紅艷1,,梁 科2,王 錦2,,李國(guó)峰1,,2
(1.南開(kāi)大學(xué)IC設(shè)計(jì)與系統(tǒng)集成實(shí)驗(yàn)室 天津市光電傳感器與傳感網(wǎng)絡(luò)技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,,天津 300350;
2.南開(kāi)大學(xué)IC設(shè)計(jì)與系統(tǒng)集成實(shí)驗(yàn)室 天津市光電子薄膜器件與技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,,天津300350)