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面向3nm,!ASML將于2021年推下一代EUV光刻機

2020-02-19
來源:中國電子網(wǎng)
關鍵詞: 半導體 EUV光刻機

  光刻機是目前世界上最復雜的精密設備之一,,芯片制造的核心設備之一,,除了可以用來生產(chǎn)芯片,,還有用于封裝的光刻機,、LED制造領域的投影光刻機,。作為全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機的公司——荷蘭ASML公司,。去年共銷售26臺EUV光刻機,,用于臺積電,、三星的7nm和5nm工藝制造。

  最近有報道指出,,ASML正在研發(fā)新一代EUV光刻機EXE:5000系列,,最快會于2021年面世。

  

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  據(jù)了解,,現(xiàn)在ASML銷售的光刻機主要為NXE:3400B和改進型的NXE:3400C,,結構上相似。差別在于NXE:3400C采用模塊化設計,,將平均維護時間從48小時縮短到8-10小時,;NXE:3400C的產(chǎn)量也從125WPH提升到了175WPH。這兩款EUV光刻機屬于第一代,,物鏡系統(tǒng)的NA(數(shù)值孔徑)為0.33,。

  在光刻機的分辨率公式中,NA數(shù)字越大,,代表光刻機精度更高,。ASML現(xiàn)在在研發(fā)新一代EUV光刻機EXE:5000系列,,NA為0.55。主要合作伙伴有Carl Zeiss AG和IMEC比利時微電子中心,。

  據(jù)悉,,EXE:5000系列EUV光刻機主要面向3nm時代,目前臺積電和三星的制程工藝路線圖已經(jīng)到了3nm,,要想讓技術盡快落地到實際,,EXE:5000系列EUV光刻機的研發(fā)極為重要。

  據(jù)ASML的爆料,,EXE:5000系列EUV光刻機樣機最快會于2021年面世,,最快可能會于2023年或者2024年上市。


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