2月20日,，三星宣布其首條基于極紫外光刻（EUV）技術(shù)的半導(dǎo)體生產(chǎn)線V1已經(jīng)開始大規(guī)模量產(chǎn),。

　　三星表示,，一季度V1產(chǎn)線將開始首批交付7nm和6nm的移動芯片,，預(yù)計到2020年年底,，7nm以下的產(chǎn)能將增加兩倍,。

　　圖片來源：三星官網(wǎng)

　　三星 V1生產(chǎn)線位于韓國華城,，2018年2月破土動工,，于2019年下半年開始測試晶圓生產(chǎn),。

　　“隨著產(chǎn)量的增加，V1系列將增強(qiáng)三星響應(yīng)市場需求的能力,，并擴(kuò)大為客戶提供支持的機(jī)會,。” 三星總裁ES Jung博士說道,。

　　三星指出,，V1生產(chǎn)線目前正在生產(chǎn)7nm、6nm移動芯片,，并將繼續(xù)采用更精細(xì)的電路,，直至3nm工藝節(jié)點(diǎn)。

　　根據(jù)該公司的計劃,，到2020年底,，V1生產(chǎn)線的累計總投資將達(dá)到60億美元，預(yù)計7nm及以下工藝節(jié)點(diǎn)的總產(chǎn)能將比2019年增長兩倍,。

　　三星表示,，隨著半導(dǎo)體幾何尺寸越來越小，EUV光刻技術(shù)的采用變得越來越重要,，為5G,，AI和汽車等下一代應(yīng)用提供了最佳選擇。

　　隨著V1生產(chǎn)線的投入使用,，三星現(xiàn)在在韓國和美國共有6條生產(chǎn)線,，其中包括5條12英寸生產(chǎn)線和1條8英寸生產(chǎn)線。

　　圖片來源：三星官網(wǎng)

　　此前梳理發(fā)現(xiàn)，早在2018年6月,，臺積電已透露量產(chǎn)7nm工藝,，2019年二季度量產(chǎn)7nm EUV工藝。

　　另外,，對于7nm以下工藝,，2月18日，路透社報道指出,，三星已獲得高通5nm部分訂單,。雖然臺積電今年也將量產(chǎn)5nm工藝，但三星仍希望通過提升這項工藝,，在與臺積電激烈的競爭中獲得市場份額。