隨著半導(dǎo)體制程工藝進(jìn)入7nm及以下節(jié)點(diǎn),，EUV光刻機(jī)成為最為關(guān)鍵的設(shè)備,。之前臺(tái)積電、三星都依賴于ASML的EUV光刻機(jī)量產(chǎn)了5nm的芯片,，不過目前EUV光刻機(jī)主要都還是應(yīng)用在邏輯芯片的制造上,。而現(xiàn)在,，存儲(chǔ)芯片廠商也開始引入EUV光刻機(jī)，推動(dòng)存儲(chǔ)芯片的制程工藝,。

　　近日,，SK海力士與ASML公司簽訂了一個(gè)超級大單，豪擲4.8萬億韓元（約35.7億歐元）搶購EUV光刻機(jī),。SK海力士在一份監(jiān)管文件中稱,，這筆交易是為了實(shí)現(xiàn)下一代工藝芯片量產(chǎn)的目標(biāo)。

　　雖然,，ASML及SK海力士都沒有透露這么多資金到底購買了多少臺(tái)EUV光刻機(jī),，不過從之前一臺(tái)EUV光刻機(jī)均價(jià)1億歐元的數(shù)據(jù)來看，SK海力士這次購買的EUV光刻機(jī)大約是35臺(tái)左右,。要知道去年全年ASML的EUV光刻機(jī)的銷量也不過31臺(tái),。

　　據(jù)了解，作為全球第二大內(nèi)存芯片廠商的SK海力士,，這次購買的EUV光刻機(jī)主要是用于新一代內(nèi)存顆粒,。對內(nèi)存來說，它跟CPU邏輯工藝一樣面臨著需要微縮的問題,，EUV光刻機(jī)可以減少多重曝光工藝,，提供工藝精度，從而可以減少生產(chǎn)時(shí)間,、降低成本,，并提高性能,。值得一提的是，此前就有消息稱SK海力士今年下半年在利川廠區(qū)M16采用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)第四代（1a nm）DRAM產(chǎn)品,。