據(jù)企查查工商信息顯示,，近日，華為旗下的哈勃科技投資有限公司已經(jīng)入股了北京科益虹源光電技術公司,?？埔婧缭吹拿蛛m然并不為產(chǎn)業(yè)外的人所熟悉，但其主要業(yè)務卻涉及光刻機的核心技術,，這意味著華為開始正式布局光刻機領域,。
具體而言，北京科益虹源光電技術公司的注冊資金由12000萬元提升至20160 萬元,，增幅達68%,。其中，哈勃投資持股4.7619%,，成為第七大股東,。
隱秘而偉大
近年來，在美方的持續(xù)打壓下,，國內(nèi)“缺芯少魂”的困境愈演愈烈,，對以華為為代表的民族企業(yè)造成的巨大影響有目共睹。幸而,，在操作系統(tǒng)領域,，華為發(fā)布了面向全智慧場景的HarmonyOS，致力于打造萬物互聯(lián)的“通用系統(tǒng)”,；在芯片領域,，華為海思擁有國內(nèi)頂尖的芯片設計團隊,，但卻受限于國產(chǎn)芯片制造產(chǎn)業(yè)落后,，華為手機業(yè)務嚴重受創(chuàng)。
過去兩年間,，華為“步履維艱”,，卻從未停止自救，并于2019年正式成立了哈勃科技投資有限公司,，主要進行投資服務,。截止去年年底，哈勃科技先后投資了包括山東天岳,、東微半導體,、天科合達、思瑞浦,、東芯半導體,、思特威在內(nèi)的25家企業(yè)，覆蓋EDA,、半導體材料,、第三代半導體、半導體晶片級襯底、模擬芯片,、光電芯片,、CMOS圖像傳感器等各種領域，不難看出華為擺脫“卡脖子”的決心,。
哈勃科技投資有限公司對外投資企業(yè)（數(shù)據(jù)來源：企查查）
2021年,，哈勃科技又先后投資了從事自主研發(fā)的電子設計自動化（EDA）軟件開發(fā)的飛譜電子，致力于高端仿真技術自主研發(fā)和應用的云道智造,，為半導體,、光伏和LED等高科技制造業(yè)提供整體解決方案的上揚軟件，從事顯示驅(qū)動芯片/電路板卡生產(chǎn)與銷售的云英谷科技,。
值得一提的是,，5月31日，哈勃科技發(fā)生工商變更,，公司注冊資本由27億人民幣增加至30億人民幣,，增幅約11.11%。另據(jù)企查查信息顯示,，哈勃科技目前對外投資企業(yè)已經(jīng)達到了38家,，投資領域涵蓋模擬芯片、碳化硅材料,、功率芯片,、人工智能芯片、車載通訊芯片,、連接器等,，而最新入股的科益虹源無疑將進一步補全哈勃投資的芯片生態(tài)產(chǎn)業(yè)鏈。
科益虹源的主要業(yè)務是光刻機中的三大核心技術之一的光源系統(tǒng),，是國內(nèi)第一,、全球第三的193nm ArF準分子激光器企業(yè)?？埔婧缭闯闪⒂?016年7月,，由中國科學院光電院、中國科學院微電子研究所,、北京亦莊國際投資有限公司,、中科院國有資產(chǎn)經(jīng)營有限公司共同投資創(chuàng)立，注冊資本12000萬元人民幣,。
2018年,，科益虹源自主設計開發(fā)的國內(nèi)首臺高能準分子激光器出貨，打破了國外廠商的長期壟斷,，一舉成為國內(nèi)行業(yè)龍頭,。然而,，身披“國內(nèi)第一、全球第三”的光環(huán),，但科益虹源的名號卻并不為大眾熟知,，很大一部分原因是其所在領域太過專業(yè)。此外,，如若不是這次“芯片斷供”造成的嚴重影響,，大部分國人恐怕無從知曉國產(chǎn)芯片制造工藝與國外技術的巨大差距，自然更是對光刻機知之甚少,。
衡量科技研發(fā)與工業(yè)水平的標桿
此前,，華為創(chuàng)始人任正非曾提到，華為遇到的困難就是他們設計的先進芯片,，國內(nèi)的基礎工業(yè)還造不出來,。眾所周知，先進工藝是國產(chǎn)芯片最薄弱的環(huán)節(jié)之一,，而在芯片制造的數(shù)百道工序之中,，光刻直接定義晶體管尺寸，決定芯片精度,，是最重要的步驟之一,，其成本占整個芯片制造成本的30%，甚至有人將其稱為“衡量科技研發(fā)與工業(yè)水平的標桿”,。
然而,，光刻步驟所需的光刻機制造卻踩到了我們的痛處。在全球光刻機市場中,，ASML的壟斷毋庸置疑,，尼康、佳能等企業(yè)也瓜分了剩余市場份額,。據(jù)最新消息顯示,，ASML孔徑數(shù)值為0.55的EXE:5000光刻機的曝光系統(tǒng)已經(jīng)設計完成,，可于2022年正式發(fā)貨,，EXE:5000光刻機可用于量產(chǎn)2nm制程芯片，甚至是1nm及以下,。
反觀國產(chǎn)光刻機則處于較為落后的位置,，目前上海微電子只能制造90nm的低端光刻機，與ASML公司制造的EUV高端光刻機和DUV中端光刻機相差甚遠,。面對國產(chǎn)光刻機的現(xiàn)狀,，北大教授林毅夫認為，荷蘭ASML公司如果沒有把光刻機賣給國產(chǎn)企業(yè),，我國大約三年就可以全盤掌握這項技術,，一旦國產(chǎn)企業(yè)掌握了這項技術，那么光刻機的制造成本就會低于國外企業(yè)，屆時荷蘭ASML只能黯然退場,。
有不少網(wǎng)友認為林毅夫教授過于樂觀,，但筆者認為其自信也不并非空穴來風。雖然EUV光刻機是目前最先進的技術,，但已是“上代人”的DUV實際上才是晶圓制造的主力,，無論是圖像傳感器、功率IC,、MEMS,、模擬IC，還是邏輯IC,，背后都有其身影,。而DUV與EUV最大的區(qū)別就是光源方面，EUV的光源波長為13.5nm,，最先進DUV的光源波則是193nm,，采用ArF光源。
值得一提的是,，我國在DUV領域頻頻傳來好消息,。前有科益虹源打破了193nm ArF激光器的外商壟斷，后有南大光電在193nm光刻膠技術上取得了突破性進展,。南大光電于近日發(fā)布公告稱,，其控股子公司寧波南大光電自主研發(fā)的ArF光刻膠繼2020年12月在一家存儲芯片制造企業(yè)的50nm閃存平臺上通過認證后，近日又在邏輯芯片制造企業(yè)55nm技術節(jié)點的產(chǎn)品上取得了認證突破,，表明公司光刻膠產(chǎn)品已具備55nm平臺后段金屬布線層的工藝要求,。
光刻膠主要用于保護芯片內(nèi)置紋路，減少線路裸露外部遭到侵蝕,。光刻膠涂抹在硅基芯片表面,，在極紫外光線的投射下形成液體，有效投射面積以及清洗過程,，直接決定到了最終芯片的成品率,，光刻膠的涂抹均勻程度也直接決定著最終芯片的性能，目前最廣泛使用到的光刻膠為Krf以及Arf,，主要用于芯片先進的制程工藝當中,。
更重要的是，ArF光刻膠市場常年被美國,、日本壟斷,。今年5月，位于日本企業(yè)“信越化學”便以生產(chǎn)能力不足為由,，宣布不再對中國半導體企業(yè)出售KrF光刻膠,。如今,，在國內(nèi)EUV光刻技術尚不成熟之際，ArF仍是主流,，所以我們在193nm ArF光刻技術上的種種突破意義非凡,。
寫在最后
最初，華為從海思做起,，歷經(jīng)近十年,，其手機芯片逐漸獲得了消費者認可，并走到了國際領先位置,，而在華為5G技術名聲大噪之前,，我國在全球通信領域也一直默默無聞。
面對壟斷與制裁,，華為及國產(chǎn)半導體行業(yè)遭遇的不僅是挑戰(zhàn),，更是前所未有的機遇。雖然半導體行業(yè)國產(chǎn)替代道阻且長,，但我國在科研技術,、工業(yè)制造、人才儲備等方面早已今非昔比,，重重重壓之下,、頂著一輪接一輪的技術封鎖，國產(chǎn)光刻機技術已經(jīng)取得長足的進步,，相信自主可控已經(jīng)絕非空談,！
