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泛林集團(tuán)計(jì)算產(chǎn)品部副總裁David Fried博士:晶體管與IC架構(gòu)的未來

2021-06-08
來源:泛林集團(tuán)

泛林集團(tuán)計(jì)算產(chǎn)品部副總裁David Fried接受了行業(yè)媒體Semiconductor Engineering (SE)的采訪,,探討并分享他對于芯片縮放、晶體管,、新型架構(gòu)和封裝等話題的看法,。以下內(nèi)容節(jié)選自采訪原文,。

Q1:數(shù)十年來,集成電路微縮一直是芯片制造行業(yè)推進(jìn)設(shè)計(jì)進(jìn)步的手段,。但是,,與之相關(guān)的成本一直在攀升,而且就每個(gè)節(jié)點(diǎn)而言,,縮小尺寸能體現(xiàn)的優(yōu)勢也在減少,。請問您怎么看待摩爾定律?我們是否需要2nm甚至更先進(jìn)的制程,?是否需要更多的算力,?

Dr. Fried:算力全面提升10倍也不嫌多。因?yàn)樗械囊磺卸夹枰懔?,包括每個(gè)用戶交互點(diǎn),、存儲(chǔ)點(diǎn)和每一次計(jì)算的節(jié)點(diǎn),更高的算力總是有用的,,在算力這個(gè)方面的需求沒有止境,。目前的遠(yuǎn)程辦公和長時(shí)間居家更是進(jìn)一步推動(dòng)了算力需求。

Q2:另外,,綜合功率,、性能、面積,、成本和時(shí)間等來看,,目前整個(gè)行業(yè)似乎在晶體管縮放方面遇到了一些挑戰(zhàn),具體問題包括功耗墻,、RC延遲和面積縮放等,。您在這個(gè)方面遇到了哪些挑戰(zhàn)?

Dr. Fried:PPAY(即功率,、性能,、面積和良率)或PPAC(即功率、性能,、面積和成本,,如果我們想特指成本)一直是所有產(chǎn)品開發(fā)避不開的要素。我們始終在努力跨越與之相關(guān)的障礙,,也一直被PPAC或PPAY制約,。我們的目標(biāo)是推動(dòng)涵蓋所有要素的整體發(fā)展,但有時(shí)在某個(gè)方面的突破可能更明顯一些。但是我們的挑戰(zhàn)來自于不同的組合,,因?yàn)檎麄€(gè)系統(tǒng)性能得到提升才是最重要的,。回顧發(fā)展的歷史,,有時(shí)候只需調(diào)整芯片時(shí)鐘頻率就能實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)級性能的巨大進(jìn)步,,但也有時(shí)是需要通過電源管理技術(shù)來做到這一點(diǎn)。無論如何,,我們所面對的最關(guān)鍵要素還是功率,、性能、面積以及良率或成本,,也就是說必須至少在其中一個(gè)領(lǐng)域取得進(jìn)步才能推動(dòng)整體系統(tǒng)性能的提升,,而這句話里的“領(lǐng)域”是在不斷變化的。

在我看來,,基線晶體管縮放一直是系統(tǒng)整體性能發(fā)展的一大重要推動(dòng)力,,這里的升級可以是任何形式的,包括逐步提升性能,、功率表現(xiàn)或晶體管均勻縮放與增強(qiáng)的一致性等?,F(xiàn)在來看,晶體管縮放顯然還是非常必要的,,這體現(xiàn)在很多方面,。舉例來說,即使不是性能本身的提升,,只要縮放能提升密度就值得去努力,,因?yàn)檫@樣我們能增加同等面積的核心性能。有些人可能并不在乎晶體管本身的性能提升,。但是,,如果能通過晶體管縮放比如將GPU的核心性能增加10%,僅這一點(diǎn)就能讓系統(tǒng)性能向前跨一大步,,因?yàn)楹芏嘣刃枰D(zhuǎn)到外部處理的數(shù)據(jù)交互如今在核心內(nèi)部就可以完成了,,這樣處理速度會(huì)有大幅提升。也就是說,,僅僅通過縮放提升單片集成,也可以實(shí)現(xiàn)巨大的系統(tǒng)級提升,。但我們依然要面對此前的制約因素,,也一直在各個(gè)方面做出努力。無論如何,,最終的目標(biāo)始終沒有變,,那就是實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)級的性能提升。因此,我們基于PPAC或PPAY采取的一些辦法整體上沒有太大變化,,不存在變革的“拐點(diǎn)”?,F(xiàn)在,我們依然試圖在某些方面取得突破并由此提升系統(tǒng)級的性能,。只要市場需求依然存在,,我們就能提供更高的算力和存儲(chǔ)。

Q3:從2011年開始,,全行業(yè)開始從平面晶體管轉(zhuǎn)向新一代的FinFET,。如今芯片制造商依然在發(fā)展先進(jìn)節(jié)點(diǎn)的FinFET晶體管,包括3nm的FinFET以及3nm/2nm的全包圍柵極納米片式晶體管,。請問您如何看待這種情況,?

Dr. Fried:從平面晶體管向FinFET過渡主要是柵極長度縮小的局限性引起的轉(zhuǎn)變。為更好地控制器件的靜電,,整個(gè)行業(yè)都轉(zhuǎn)向了雙柵極架構(gòu),,這就涉及到幾納米的柵極縮放,并進(jìn)一步創(chuàng)造了新的晶體管縮放維度,。我們可以提升高度,,讓同等封裝面積有更大的有效寬度,這樣可以讓整個(gè)過渡更平穩(wěn),。全包圍柵極好處在于完全控制器件的靜電,,這將帶來額外幾個(gè)納米的柵極縮放。而正是這幾個(gè)納米的差異開啟了新的縮放維度,。如果將來我們可以實(shí)現(xiàn)互補(bǔ)式FET——例如彼此堆疊的nFET和pFET——這將給我們額外的邏輯縮放優(yōu)勢,。

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我們從獲得靜電控制優(yōu)勢開始,以實(shí)現(xiàn)柵極長度縮放,,并由此創(chuàng)造了全新的縮放維度,。盡管如此,從FinFET過渡到全包圍柵極(納米線或納米片)可能沒有之前這么順利,,因?yàn)樾碌募軜?gòu)需要我們在結(jié)構(gòu)之下執(zhí)行工藝,,這是一個(gè)非常大的改變,且具有挑戰(zhàn)性,。在FinFET時(shí)代,,我們需要在側(cè)壁上更好地執(zhí)行半導(dǎo)體工藝,但我們?nèi)匀豢梢钥吹秸麄€(gè)過程,。在全包圍柵極納米片/納米線結(jié)構(gòu)中,,處理過程中所涉及的架構(gòu)將是看不到的,這樣進(jìn)行測定的難度就會(huì)大幅提升,。因此,,向全包圍柵極過渡更具有挑戰(zhàn)性,。

Q4:您如何看待先進(jìn)封裝、單片集成等替代架構(gòu),?

Dr. Fried:我們應(yīng)該歡迎在系統(tǒng)層面的任何創(chuàng)新,,包括晶體管縮放、芯片架構(gòu)改進(jìn)和3D集成化封裝,,綜合所有這些進(jìn)步才能滿足最高的系統(tǒng)性能要求?,F(xiàn)在的市場對系統(tǒng)的需求非常多樣化。曾經(jīng)的市場沒有這么分化,,當(dāng)時(shí)一切都是以CPU為重,。回看過去,,我們曾經(jīng)的系統(tǒng)級性能改進(jìn)方案很像是瑞士軍刀,,也就是說所有的方法,無論對應(yīng)的是晶體管,、互連,、封裝還是集成,都是為一個(gè)更大的整體方案服務(wù),。

如今,,市場需求已經(jīng)出現(xiàn)多樣化,每個(gè)系統(tǒng)都有自己獨(dú)特的需求,。如果沿著這些多樣化的路徑發(fā)展,,我們可能需要在晶體管、封裝和互連等每個(gè)領(lǐng)域做出不同的方案,,也就是說要以不同的方式優(yōu)化每個(gè)系統(tǒng),。例如,由于不同系統(tǒng)有不同的要求和需求,,一個(gè)3D集成方案的內(nèi)存,、I/O和計(jì)算單元配置可能完全不同于另一個(gè)方案的配置。這里面要抉擇的東西非常多,,一旦芯片架構(gòu)發(fā)生變化,,相關(guān)的技術(shù)、封裝和互連方法也要隨之改變,。我很期待能看到這樣多樣化的系統(tǒng)性能要求究竟能給這個(gè)行業(yè)帶來怎樣的變化,。

 


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