今天的Q2財報會議上,，臺積電除了公布當(dāng)季運(yùn)營數(shù)據(jù)之外，還談到了工藝進(jìn)展,，確認(rèn)3nm工藝今年下半年量產(chǎn)，2nm則會在2025年量產(chǎn)。
目前HPC高性能計算占了臺積電營收的重要部分,，對先進(jìn)工藝要求也是很高的，臺積電的3nm工藝今年下半年量產(chǎn),，明年上半年貢獻(xiàn)營收,，不過初期會拉低一些毛利率，大約2-3個點,。
臺積電的3nm工藝共有5個衍生版本,，包括N3、N3P,、N3S,、N3X、N3E等等,，會陸續(xù)在未來兩三年內(nèi)量產(chǎn),。
再往后就是2nm節(jié)點了，這是臺積電的有一個重大節(jié)點,，會采用納米片晶體管(Nanosheet),，取代FinFET(鰭式場效應(yīng)晶體管)，也就是進(jìn)入GAA晶體管時代,，不過三星在3nm節(jié)點就已經(jīng)采用這個技術(shù)了,。
N2相較于N3，在相同功耗下,，速度快10~15%;相同速度下,，功耗降低25~30%,，開啟高效能新紀(jì)元。
不過密度方面擠牙膏了,，相比3nm僅提升了10%,，遠(yuǎn)遠(yuǎn)達(dá)不到摩爾定律密度翻倍的要求，比之前臺積電新工藝至少70%的密度提升也差遠(yuǎn)了,。
根據(jù)臺積電的信息,，2nm工藝將在2024年試產(chǎn)，2025年量產(chǎn),。
本站內(nèi)容除特別聲明的原創(chuàng)文章之外,，轉(zhuǎn)載內(nèi)容只為傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)站贊同其觀點,。轉(zhuǎn)載的所有的文章,、圖片、音/視頻文件等資料的版權(quán)歸版權(quán)所有權(quán)人所有,。本站采用的非本站原創(chuàng)文章及圖片等內(nèi)容無法一一聯(lián)系確認(rèn)版權(quán)者,。如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)和其它問題,，請及時通過電子郵件或電話通知我們,，以便迅速采取適當(dāng)措施，避免給雙方造成不必要的經(jīng)濟(jì)損失,。聯(lián)系電話：010-82306118,；郵箱：[email protected]。