眾所周知,，當前全球只有ASML一家能夠生產EUV光刻機,，甚至可以說很長一段時間內，全球也只有ASML能夠生產光刻機,，不會有第二家,。

原因在于ASML把EUV光刻機的路堵住了，這條路別人是走不通的,。

ASML與全球眾多的供應鏈,，形成了捆綁關系，像蔡司等與ASML形成了利益共同體,，EUV光刻機中,，蔡司等廠商至關重要，掌握核心科技,，缺少這些供應鏈,，其它廠商不可能制造出EUV光刻機。

所以,，目前眾多的其它光刻機企業(yè),，并不打算走EUV光刻機這條路，在另尋它路,。

同樣的,，國產光刻機基本上也走不通EUV這條路，只能另尋他路,，而從現在的情況來看,，目前主流上有三條路，這三條路都能實現EUV光刻機的效果,。

第一條路是電子束光刻——用電子束在硅片上進行雕刻,。

這條路的優(yōu)點是精細，分辨率高，比EUV光刻機還要高,，美國公司Zyvex Labs生產出了這樣的光刻機,，實現0．768nm芯片的光刻，但缺點是產能低,，效率低,，無法大規(guī)模量產芯片，只能實驗室用,，但也不失為一條新的路,。

第二條路是納米壓印，也稱NIL技術,。原理是電路圖設計出來后,，刻在納米板上，再像印書一樣壓印在硅片上,。

這種的優(yōu)點非常多,，比如功率遠比EUV光刻機低，一臺EUV光刻機一年要用1000萬度電,，但這種NIL技術能耗減少90％,，且制造成本比EUV光刻機低40％。

缺點是目前精度不夠,，遠遠達不到7nm,、5nm的級別，大約還處于28－40nm及以上,，但未來精度提高后,，替代EUV完全可行。

還有一種是自組裝（DSA）光刻,，這種技術比較神奇，就是用一些化學材料,，直接在硅晶圓上,，操縱這些材料，把芯片的電路圖刻畫出來,，比如不要的部分用材料腐蝕掉……

但這種技術,，目前還遠遠看不到量產的希望，這種神奇的化學材料不好找,，但美國,、歐洲等實驗室據說有了進展，不過短時間內肯定沒戲,，只能在科幻劇中看到,。

很明顯，目前看起來最可靠的，還是NIL納米壓印技術,，完全有替代EUV光刻機的可能性,，目前國內也在研究這個技術。

不過研究最好的還是日本的佳能,，佳能在NIL技術上專利全球最多,，且已經有了量產機器，目前在改進精度,，希望國產加油,，也能夠趕緊推出NIL光刻機出來，那樣我們的芯片就不怕被卡脖子了,。

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