ASML對外展示了最新EUV光刻機內部畫面,，或許在他們看來，就算把這些全部展現給大家看,，也沒辦法來偷師他們的技術,。
該系統(tǒng)已獲得英特爾公司的訂單，首臺機器已于去年年底運抵其位于俄勒岡州的D1X工廠,，英特爾計劃在 2025 年年底開始使用該系統(tǒng)進行生產,。
High-NA EUV光刻機能夠在半導體上蝕刻出僅8nm寬的線條，是上一代產品的1/1.7,。更細的線條意味著芯片可以容納更多的晶體管,，從而實現更快的處理速度和更高的存儲容量，這對于人工智能工作負載至關重要,。
該公司上季度收到了創(chuàng)紀錄的頂級EUV光刻機訂單,，顯示了包括英特爾、三星電子和臺積電在內的大客戶對該技術的樂觀預期,，由于種種因素限制,，中國廠商是沒辦法被允許購買這些設備的。
有網友甚至感慨,，即便這些內部結構展示給國產廠商,，可能真正阻礙下也沒辦法去逆向推演復刻。
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