韓媒 etnews 近日報道稱 SK 海力士將于今年引入 8 臺 EUV 光刻機,，推動 DRAM 內存產品的技術演進,。
SK 海力士現(xiàn)有 5 臺光刻機,。到今年末,，若加上韓媒報道中稱的 8 臺,，其擁有的 EUV 光刻機總數(shù)將達 13 臺,，較年初翻倍有余,，大幅提升 EUV 曝光能力,。
SK 海力士于第四代 10 納米級制程 ——1anm 制程中首次引入 EUV 光刻,，當時僅在 1 個步驟中使用,；而來到目前的 1bnm 節(jié)點中，EUV 使用步驟提升到 4 個,；至于正在研發(fā)的 1cnm 工藝,，據(jù) etnews 透露，EUV 使用量將進一步提升至 6 個步驟,。
SK 海力士于去年 5 月完成了 1bnm 制程服務器內存的技術研發(fā),，并宣布計劃于今年上半年將這一先進工藝擴展到 LPDDR5T 和 HBM3E 等移動 / AI 服務器領域熱門 DRAM 內存產品中,，這也增加了對 EUV 曝光的需求。此外曲線升級無錫工廠產能至 1anm 也將增加 SK 海力士在韓國本土的 EUV 用量,。
采用 EUV 的 SK 海力士 1bnm DDR5 內存條
SK 海力士今年計劃在半導體設備領域投資 5.3 萬億韓元（IT之家備注：當前約 286.73 億元人民幣）,。etnews 稱新 EUV 設備總共價值約 2 萬億韓元，預計將占到整體設備投資的近四成,。
etnews 就 EUV 設備引進計劃向 SK 海力士發(fā)言人尋求回應,，發(fā)言人表示“無法確認公司設備投資情況”。
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