5 月 24 日消息,，據(jù)臺(tái)媒《MoneyDJ 理財(cái)網(wǎng)》報(bào)道，臺(tái)積電高管在 2024 年技術(shù)論壇新竹場(chǎng)上稱,，其采用 Nanosheet 納米片（GAA 晶體管）的 2nm 節(jié)點(diǎn)進(jìn)展順利,。

臺(tái)積電聯(lián)席副 COO 張曉強(qiáng)表示，臺(tái)積電的 2nm 制程進(jìn)展“非常順利”：目前納米片的“轉(zhuǎn)換表現(xiàn)”已達(dá)到目標(biāo) 90%,，按良率計(jì)算也超過了 80%,。

臺(tái)積電認(rèn)為其 N2 制程在 2025 年推出時(shí)，將繼續(xù)成為代工業(yè)界最領(lǐng)先的技術(shù),。

另?yè)?jù)外媒 Anandtech 整理，臺(tái)積電將在 2025 下半年實(shí)現(xiàn) N2 制程量產(chǎn),，同期還將帶來(lái) 3nm 家族中面向 HPC 應(yīng)用的 N3X 制程,。

N3X 制程擁有更高的 1.2V 最大電壓，相較 N3P 制程在相同頻率下功耗降低 7%,，在相同面積下性能提升 5%,，在相同頻率下密度提升 10%。另?yè)?jù)IT之家此前報(bào)道,，該節(jié)點(diǎn)有望從今年開始接獲投片,。

而在 2026 下半年，臺(tái)積電將量產(chǎn)兩個(gè) 2nm 家族變體制程：N2P 和 A16,。

N2P 制程將相較 N2 制程在相同頻率和密度下功耗降低 5~10%,，在相同密度和功耗下性能提升 5~10%。

在 A16 節(jié)點(diǎn),，臺(tái)積電將正式引入背面供電技術(shù),。該制程可在相同工作電壓下，頻率提升 8~10%,；在相同頻率下功耗降低 15~20%,，密度至高提升 10%,。