《電子技術(shù)應(yīng)用》
您所在的位置:首頁(yè) > EDA與制造 > 業(yè)界動(dòng)態(tài) > 佳能宣布已向德克薩斯電子研究所出貨首臺(tái)納米壓印設(shè)備

佳能宣布已向德克薩斯電子研究所出貨首臺(tái)納米壓印設(shè)備

2024-09-27
來(lái)源:芯智訊

1.jpg

9月26日,佳能公司宣布,,已于9月26日向總部位于美國(guó)德克薩斯州的半導(dǎo)體聯(lián)盟——德克薩斯電子研究所 (TIE) 運(yùn)送其最先進(jìn)的納米壓印光刻 (NIL) 系統(tǒng)FPA-1200NZ2C ,。

在2023年10月13日,佳能正式發(fā)布了全球首款NIL系統(tǒng)FPA-1200NZ2C,,成為了全球首個(gè)將采用 NIL 技術(shù)的半導(dǎo)體制造系統(tǒng)商業(yè)化的公司,,該技術(shù)以不同于傳統(tǒng)投影曝光技術(shù)的方法形成電路圖案。

傳統(tǒng)的光刻設(shè)備通過(guò)將電路圖案投射到涂有光刻膠的晶圓上來(lái)轉(zhuǎn)移電路圖案,,而新產(chǎn)品通過(guò)將印有電路圖案的掩模像印刷一樣,,將圖形壓入晶圓上的光刻膠來(lái)實(shí)現(xiàn)。它的電路圖案轉(zhuǎn)移過(guò)程不經(jīng)過(guò)光學(xué)部件,,也可以在晶圓上忠實(shí)地再現(xiàn)掩模上的精細(xì)電路圖案,。新系統(tǒng)降低了功耗和成本,可實(shí)現(xiàn)最小線(xiàn)寬為14nm的圖形化,,相當(dāng)于5nm節(jié)點(diǎn),。

0.png

當(dāng)下的5nm制程的先進(jìn)半導(dǎo)體制造設(shè)備市場(chǎng),則由ASML的EUV光刻機(jī)所壟斷,單臺(tái)價(jià)格約1.5億美元,。對(duì)于接下來(lái)更為先進(jìn)的2nm及以下制程的芯片,,ASML也推出了成本更為高昂的High-NA EUV光刻機(jī),,單臺(tái)價(jià)格高達(dá)3.5億歐元,,這也使得尖端制程所需的成本越來(lái)越高。

相比之下,,佳能的目前NIL技術(shù)將可以使得芯片制造商不依賴(lài)于EUV光刻機(jī)就能生產(chǎn)最小5nm制程節(jié)點(diǎn)的邏輯半導(dǎo)體,。佳能半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)務(wù)部長(zhǎng)巖本和德此前還曾表示,如果改進(jìn)光罩,,NIL甚至可以生產(chǎn)2nm先進(jìn)制程的芯片,。佳能的納米壓印技術(shù)或許將有機(jī)會(huì)幫助佳能縮小其與ASML的差距。

更為關(guān)鍵的是,,佳能的納米壓印設(shè)備成本和制造成本都遠(yuǎn)低于ASML的EUV光刻機(jī),。巖本和德表示,客戶(hù)的成本因條件而異,,據(jù)估算1次壓印工序所需要的成本,,有時(shí)能降至傳統(tǒng)曝光設(shè)備工序的一半。而且,,因?yàn)榧{米壓印設(shè)備的規(guī)模較小,,在研發(fā)等用途方面也更容易引進(jìn)。據(jù)了解,,采用納米壓印技術(shù),,將可使得整體的設(shè)備投資降低至EUV光刻產(chǎn)線(xiàn)設(shè)備的40%水平。

雖然佳能并未公布其納米壓印設(shè)備的定價(jià),,但是,,佳能CEO御手洗富士夫此前曾表示,該公司的納米壓印設(shè)備的“價(jià)格將比ASML的EUV光刻機(jī)低一位數(shù)(即僅有10%)”,。

根據(jù)佳能最新的官方新聞稿顯示,,其首臺(tái) FPA-1200NZ2C 將在 TIE 被用于先進(jìn)半導(dǎo)體的研發(fā)和原型的生產(chǎn)。

據(jù)介紹,,TIE 是一個(gè)半導(dǎo)體聯(lián)盟,,成立于 2021 年,得到了德克薩斯大學(xué)奧斯汀分校的支持,。它由州和地方政府,、半導(dǎo)體公司、國(guó)家研究機(jī)構(gòu)和其他實(shí)體組成,。TIE 提供對(duì)半導(dǎo)體研發(fā)計(jì)劃和原型設(shè)計(jì)設(shè)施的開(kāi)放訪(fǎng)問(wèn),,以幫助解決與先進(jìn)半導(dǎo)體技術(shù)(包括先進(jìn)封裝技術(shù))相關(guān)的問(wèn)題。

不過(guò),,需要指出的是,,NIL是完全不同于光刻技術(shù)的全新路徑,,因此它與現(xiàn)有的基于DUV或EUV光刻的產(chǎn)線(xiàn)是不兼容的,也就是說(shuō)現(xiàn)有的大型芯片制造商無(wú)法再現(xiàn)有產(chǎn)線(xiàn)中直接使用NIL技術(shù),,需要重新建立全新的生產(chǎn)線(xiàn),,顯然這將成為阻礙NIL技術(shù)推廣的一個(gè)因素。這也使得佳能的NIL設(shè)備的初期的客戶(hù)主要來(lái)源于研究機(jī)構(gòu),、科研院校等,。

另外,相對(duì)于擁有數(shù)十層不同電路結(jié)構(gòu)的邏輯半導(dǎo)體來(lái)說(shuō),,存儲(chǔ)芯片由于存在多層重復(fù)的電路,,更適合利用NIL技術(shù)來(lái)進(jìn)行制造,這也是為什么此前傳聞SK海力士,、鎧俠,、美光等存儲(chǔ)芯片廠商都對(duì)NIL設(shè)備感興趣的原因。

佳能表示,,其將繼續(xù)推進(jìn)使用納米壓印光刻系統(tǒng)進(jìn)行半導(dǎo)體制造的研究和開(kāi)發(fā),,為半導(dǎo)體制造技術(shù)的發(fā)展做出貢獻(xiàn)。


Magazine.Subscription.jpg

本站內(nèi)容除特別聲明的原創(chuàng)文章之外,,轉(zhuǎn)載內(nèi)容只為傳遞更多信息,,并不代表本網(wǎng)站贊同其觀點(diǎn)。轉(zhuǎn)載的所有的文章,、圖片,、音/視頻文件等資料的版權(quán)歸版權(quán)所有權(quán)人所有。本站采用的非本站原創(chuàng)文章及圖片等內(nèi)容無(wú)法一一聯(lián)系確認(rèn)版權(quán)者,。如涉及作品內(nèi)容,、版權(quán)和其它問(wèn)題,請(qǐng)及時(shí)通過(guò)電子郵件或電話(huà)通知我們,,以便迅速采取適當(dāng)措施,,避免給雙方造成不必要的經(jīng)濟(jì)損失。聯(lián)系電話(huà):010-82306118,;郵箱:[email protected],。