kla-tencor" title="kla-tencor">kla-tencor.com/">KLA-Tencor 公司（納斯達(dá)克" title="納斯達(dá)克">納斯達(dá)克股票代碼：KLAC）今天推出最新型疊對測量系統(tǒng) Archer 200，它包含一個能夠顯著改善性能的增強(qiáng)型光學(xué)系統(tǒng),，這對于幫助客戶在 32 納米設(shè)計規(guī)格節(jié)點達(dá)到雙次成圖光刻更嚴(yán)格的疊對要求至關(guān)重要,?？蛻暨€可以選擇在 Archer 200 上增加 KLA-Tencor 先進(jìn)的散射測量技術(shù)，以在達(dá)到其特定的 32 納米及更小線距測量要求中提供更大的靈活性,。?? ?

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KLA-Tencor 疊對測量部的副總裁兼總經(jīng)理 Ofer Greenberger 表示：“32 納米設(shè)計的疊對預(yù)算被拉到極限，特別是采用雙次成圖技術(shù)，并且芯片制造商" title="芯片制造商">芯片制造商正在尋求提高其疊對系統(tǒng)的精度與速度,。我們新的 Archer 200 系統(tǒng)延伸了我們熟知的光學(xué)成像技術(shù)的性能優(yōu)勢，可滿足 32 納米光刻控制的所有層要求,，并且其許多增強(qiáng)功能都可以在安裝的 Archer 的廣大客層上進(jìn)行升級,，以獲得最大" title="最大">最大投資回報。我們與主要光刻供應(yīng)商的密切關(guān)系已在高階疊對控制中產(chǎn)生重要的強(qiáng)化作用,，能幫助芯片制造商實施雙次成圖的更先進(jìn)的掃描曝光機(jī)校正與監(jiān)控,?！?/SPAN> ?

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作為 KLA-Tencor 持續(xù)關(guān)注先進(jìn)成像技術(shù)，以推動公司疊對路線圖向前發(fā)展的一部分,，其工程師對 Archer 200 系統(tǒng)的核心光學(xué)設(shè)計進(jìn)行了重大改進(jìn),。與上一代 Archer 系統(tǒng)相比，這些開發(fā)成果讓機(jī)臺匹配度提高 50% 以上,，產(chǎn)能提高 25%,。匹配是疊對測量中的一個關(guān)鍵衡量標(biāo)準(zhǔn)，因為不同系統(tǒng)必須實現(xiàn)幾乎完全相同的層對準(zhǔn),。這個更強(qiáng)的光學(xué)系統(tǒng)還有一個重新設(shè)計的光路,，能夠通過更多的光，因為測量越快,，產(chǎn)能就越高,。新的相機(jī)管理算法可以加速系統(tǒng)作業(yè)并降低噪音，進(jìn)一步提高產(chǎn)能和精確度,。 ?

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32 納米設(shè)計規(guī)格節(jié)點為疊對測量帶來了兩項獨特挑戰(zhàn)：更高的芯片密度及光刻雙次成圖,。為了克服這兩項挑戰(zhàn)，客戶必須增加疊對抽樣,，并更加高效地使用先進(jìn)的疊對目標(biāo),。Archer 200 讓芯片制造商能夠使用業(yè)界標(biāo)準(zhǔn) AIM 目標(biāo)，或者甚至能夠被插入芯片自身內(nèi)部不同位置的更小的“微 AIM (μAIM)”目標(biāo),。這種更強(qiáng)的疊對目標(biāo)能力能夠?qū)崿F(xiàn)最大的掃描曝光機(jī)對準(zhǔn),，由此帶來最大的設(shè)備產(chǎn)能。 ?

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Archer 200 系統(tǒng)提供了一個可選模塊,，該模塊具備先進(jìn)的散射疊對 (SCOL) 測量功能,。此選項可實現(xiàn)亞納米級總測量誤差，讓客戶能夠無需多個專屬系統(tǒng)即可使用 SCOL 技術(shù)開始工作,。 ?

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Archer 200 系統(tǒng)已被美國,、歐洲及韓國的多家包含邏輯電路及內(nèi)存代工廠在內(nèi)的芯片制造商應(yīng)用于 45 納米生產(chǎn)及 32 納米開發(fā)。 ?

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關(guān)于 KLA-Tencor：KLA-Tencor 是為半導(dǎo)體制造及相關(guān)行業(yè)提供良率管理和制程控制解決方案的全球領(lǐng)先企業(yè),。該公司總部設(shè)在美國加州的圣何塞市,，銷售及服務(wù)網(wǎng)絡(luò)遍布全球。KLA-Tencor 躋身于標(biāo)準(zhǔn)普爾 500 強(qiáng)公司之一,，并在納斯達(dá)克全球精選市場上市交易,，其股票代碼為 KLAC。有關(guān)該公司的更多信息,，請訪問 http://www.kla-tencor.com,。?