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新一代EUV光刻機(jī)單臺(tái)售價(jià)30億元,! 三星盤算搶先臺(tái)積電獲得

2020-12-02
來源:EETOP

  三星電子副會(huì)長(zhǎng)李在镕(Lee Jae-yong)今年10月出訪歐洲,、拜會(huì)艾司摩爾(ASML)執(zhí)行長(zhǎng)Peter Wennink等人后,傳出Wennink也禮尚往來,,于上周訪問三星,,希望能促成極紫外光(EUV)光刻機(jī)的合作案。

  Business Korea 12月1日?qǐng)?bào)道,,Wennink 等ASML 高層上周訪問了三星半導(dǎo)體廠,,討論EUV 光刻設(shè)備的供給與發(fā)展合作案。業(yè)界內(nèi)部人士相信,,三星要求ASML 供應(yīng)更多EUV 光刻設(shè)備,,雙方并討論開發(fā)新一代EUV 設(shè)備的合作事宜。

  身為全球唯一一家EUV 設(shè)備制造商的ASML,,目前對(duì)臺(tái)積電的供貨量高于三星,。三星希望跟ASML 合組科技聯(lián)盟,取得更多新一代EUV 光刻設(shè)備,。ASML 也有跟三星投資合作的必要,,因?yàn)樾乱淮鶨UV 設(shè)備需要大量研發(fā)資金。

  三星希望投資高數(shù)值孔徑(high-numerical aperture,,High-Na)EUV 設(shè)備的開發(fā)案,,這種設(shè)備可改善半導(dǎo)體微制程所需的電路解析度,一臺(tái)設(shè)備要價(jià)4.5億美元(接近30億元人民幣),,是目前款式的2-3 倍,。ASML 計(jì)劃2023 年年中推出設(shè)備原型,三星希望趕在臺(tái)積電之前取得設(shè)備,,爭(zhēng)取技術(shù)領(lǐng)先,。

  不過,三星一名內(nèi)部人士透露,,雙方并未在會(huì)議上達(dá)成投資決定,。ASML 高層只是應(yīng)李在镕10 月份的邀請(qǐng)前來三星訪問。ASML 高層也拜訪SK 海力士(SK Hynix)總裁李錫熙(Lee Seok-hee),,消息顯示他們討論了要如何擴(kuò)大供應(yīng)EUV 設(shè)備,、促進(jìn)合作。

 

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