《電子技術(shù)應(yīng)用》
您所在的位置:首頁 > EDA與制造 > 業(yè)界動態(tài) > 日本首臺ASML EUV光刻機下月進駐Rapidus晶圓廠

日本首臺ASML EUV光刻機下月進駐Rapidus晶圓廠

2024-11-15
來源:IT之家
關(guān)鍵詞: ASML EUV 光刻機 Rapidus 晶圓廠

11 月 15 日消息,《日本經(jīng)濟新聞》當(dāng)?shù)貢r間今日凌晨報道稱,,日本先進半導(dǎo)體代工企業(yè) Rapidus 購入的第一臺 ASML EUV 光刻機將于 2024 年 12 月中旬抵達北海道新千歲機場,,這也將成為日本全國首臺 EUV 光刻設(shè)備。

根據(jù) Rapidus 高管以往表態(tài),,該光刻機是較早期的 0.33 NA 型號,,而非目前全球總量不足 10 臺的 0.55 NA(High NA)款。

據(jù)悉本次整個空運任務(wù)將分多架次完成,,新千歲機場還為這臺對精度要求極高,、不耐振動的“龐然大物”對機場顛簸不平的路面進行了重新鋪設(shè);此外 ASML 已在千歲市建設(shè)了客戶服務(wù)中心,,將支持該系統(tǒng)的接收,。

0.png

▲ ASML 的 0.33 NA EUV 光刻機 NXE:3800E 

按 Rapidus 此前的規(guī)劃,該公司定于 2025 年 4 月啟動先進制程原型線,,該產(chǎn)線將擁有包括 EUV 光刻機在內(nèi)的共計 200 余臺設(shè)備,。根據(jù)千歲市當(dāng)?shù)卣恼f法,Rapidus 的 IIM-1 晶圓廠截至上月底已完成 63% 的施工進度,。

0.png

▲ IIM-1 晶圓廠概念圖

除 Rapidus 外,,日本未來還有至少兩家晶圓廠將先后導(dǎo)入先進的 EUV 光刻機:

美光 1-gamma(IT之家注:即 1c nm)制程 DRAM 內(nèi)存需使用 EUV,美光廣島工廠預(yù)計于 2025 年內(nèi)導(dǎo)入 EUV 光刻設(shè)備為 2026 年的量產(chǎn)做準(zhǔn)備,;臺積電控股子公司 JASM 預(yù)定 2027 年投產(chǎn)的第二晶圓廠包含 6nm 產(chǎn)線,,也需要 EUV 機臺。


Magazine.Subscription.jpg

本站內(nèi)容除特別聲明的原創(chuàng)文章之外,,轉(zhuǎn)載內(nèi)容只為傳遞更多信息,,并不代表本網(wǎng)站贊同其觀點。轉(zhuǎn)載的所有的文章,、圖片,、音/視頻文件等資料的版權(quán)歸版權(quán)所有權(quán)人所有。本站采用的非本站原創(chuàng)文章及圖片等內(nèi)容無法一一聯(lián)系確認(rèn)版權(quán)者,。如涉及作品內(nèi)容,、版權(quán)和其它問題,請及時通過電子郵件或電話通知我們,,以便迅速采取適當(dāng)措施,,避免給雙方造成不必要的經(jīng)濟損失。聯(lián)系電話:010-82306118,;郵箱:[email protected],。