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ASML新款NXE:3800E EUV光刻機(jī)引入部分High-NA機(jī)型技術(shù)

3 月 27 日消息,據(jù)荷蘭媒體 Bits&Chips 報(bào)道,,ASML 官方確認(rèn)新款 0.33NA EUV 光刻機(jī) ——NXE:3800E 引入了部分 High-NA EUV 光刻機(jī)的技術(shù),運(yùn)行效率得以提升,。 根據(jù)IT之家之前報(bào)道,,NXE:3800E 光刻機(jī)已于本月完成安裝,,可實(shí)現(xiàn) 195 片晶圓的每小時(shí)吞吐量,相較以往機(jī)型的 160 片提升近 22%,。 下一代光刻技術(shù) High-NA(高數(shù)值孔徑) EUV 采用了更寬的光錐,,這意味著其在 EUV 反射鏡上的撞擊角度更寬,會(huì)導(dǎo)致影響晶圓吞吐量的光損失,。因此 ASML 提高了光學(xué)系統(tǒng)的放大倍率,,從而將光線入射角調(diào)整回合適大小。 但在掩膜尺寸不變的情況下,,增加光學(xué)系統(tǒng)放大倍率本身也會(huì)因?yàn)槠毓鈭?chǎng)的減少影響晶圓吞吐量,。因此 ASML 僅在一個(gè)方向上將放大倍數(shù)從 4 倍提升至 8 倍,這使得曝光場(chǎng)僅用減小一半,。 而為了進(jìn)一步降低曝光時(shí)間,,提升吞吐量,有必要提升光刻機(jī)載物臺(tái)的運(yùn)動(dòng)速率,。ASML 工程師就此開(kāi)發(fā)了同時(shí)兼容現(xiàn)有 0.33NA 數(shù)值孔徑系統(tǒng)的新款快速載物臺(tái)運(yùn)動(dòng)系統(tǒng),。

發(fā)表于:3/28/2024