高集成度多標記光刻版版圖的快速處理技術
所屬分類：技術論文
上傳者：aetmagazine
文檔大?。?span>569 K
標簽： 微光刻 高集成度 快速排布
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文檔介紹：介紹了一種高集成度多標記光刻版版圖的快速處理技術。其中包括以下四個模塊： chip芯片排布模塊,、標記排布模塊,、芯粒數(shù)統(tǒng)計模塊和自動版號模塊,。在版圖編輯工具L-edit中使用這些模塊可以大幅提升微光刻中的高集成度多標記光刻版版圖的排布效率并提高準確度，從而有效縮短掩膜版的生產(chǎn)周期,。
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