EDA與制造相關(guān)文章

三星3nm GAA工藝良率上升至30%至60%

3月25日消息,，據(jù)媒體透露,，有消息人士稱,，三星電子的3納米Gate-All-Around（GAA）工藝的良率已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了三倍的提高,，從先前的10%至20%上升至30%至60%之間,，然而,，這仍然落后于競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手臺(tái)積電,。 除此之外,，臺(tái)積電還宣布今年將3納米晶圓的產(chǎn)量擴(kuò)大到每月約10萬(wàn)片,，這使得三星幾乎沒(méi)有趕上代工競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手臺(tái)積電的機(jī)會(huì),。 報(bào)道指出，三星電子在其第二代3納米GAA工藝上投入了更多精力，并在功耗,、性能和邏輯區(qū)域方面進(jìn)行了改進(jìn),。 然而，這并沒(méi)有為三星吸引更多客戶,。一份報(bào)告指出,，要重新贏得像高通等先前的客戶認(rèn)可，三星需要將良率提高到70%,。而這些企業(yè)在可預(yù)見(jiàn)的未來(lái)將繼續(xù)選擇臺(tái)積電,。 本月初，韓國(guó)媒體報(bào)道稱,，三星電子已經(jīng)通知客戶和合作伙伴,，自今年年初起，將第二代3納米工藝改名為2納米工藝,。 一位業(yè)內(nèi)人士表示：“我們收到了三星電子的通知,，他們正在將第二代3納米工藝更名為2納米工藝。去年簽訂的第二代3納米合同也同步轉(zhuǎn)為了2納米,，因此我們近期需要重新簽訂合同,。”

發(fā)表于：2024/3/26