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ASML首席執(zhí)行官質(zhì)疑美國(guó)芯片封鎖
發(fā)表于：10/25/2024 9:07:37 AM
消息稱三星得州工廠因?yàn)闆](méi)有訂單而推遲接收ASML EUV光刻機(jī)，
發(fā)表于：10/21/2024 9:10:41 AM
ASML確認(rèn)出貨第三臺(tái)High NA EUV光刻機(jī)
發(fā)表于：10/18/2024 9:12:55 AM
ASML發(fā)布2024年第三季度財(cái)報(bào) | 凈銷售額75億歐元
發(fā)表于：10/16/2024 9:25:02 AM
Gartner統(tǒng)計(jì)顯示2023年全球半導(dǎo)體設(shè)備廠商表現(xiàn)兩極分化明顯
發(fā)表于：10/14/2024 9:07:18 AM
英特爾確認(rèn)ASML第二臺(tái)High NA EUV光刻機(jī)完成安裝
發(fā)表于：10/10/2024 8:22:00 AM
臺(tái)積電首臺(tái)High-NA EUV將放置在其全球研發(fā)中心
發(fā)表于：9/12/2024 9:27:42 AM
消息稱其臺(tái)積電首臺(tái)High NA EUV光刻機(jī)遠(yuǎn)低于ASML3.5億歐元報(bào)價(jià)
發(fā)表于：9/10/2024 10:50:00 AM
荷蘭政府從美國(guó)收回兩款A(yù)SML光刻機(jī)的出口管制權(quán)
發(fā)表于：9/9/2024 8:38:15 AM
消息稱荷蘭將禁止ASML對(duì)在華高端DUV設(shè)備維護(hù)
發(fā)表于：8/30/2024 11:47:54 AM
消息稱三星將削減High-NA EUV光刻機(jī)采購(gòu)規(guī)模
發(fā)表于：8/20/2024 11:28:00 AM
ASML CEO重申世界需要中國(guó)傳統(tǒng)芯片
發(fā)表于：8/20/2024 10:06:36 AM
SK海力士計(jì)劃2026年首次導(dǎo)入ASML High NA EUV光刻機(jī)
發(fā)表于：8/20/2024 8:19:26 AM
三星被曝最快2024年底前開(kāi)始安裝首臺(tái)ASML High-NA EUV光刻機(jī)
發(fā)表于：8/16/2024 8:35:53 AM
imec首次成功利用High NA EUV光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)邏輯DRAM結(jié)構(gòu)圖案化
發(fā)表于：8/8/2024 10:07:16 AM
俄羅斯目前僅有5臺(tái)老式ASML光刻機(jī)
發(fā)表于：8/6/2024 10:39:00 AM
美國(guó)政府威脅ASML和東京電子以對(duì)華實(shí)施更嚴(yán)厲半導(dǎo)體限制
發(fā)表于：7/17/2024 10:25:00 PM
ASML二季度來(lái)自中國(guó)大陸的凈系統(tǒng)銷售額占比仍高達(dá)49%
發(fā)表于：7/17/2024 10:20:00 PM
ASML CEO：世界需要中國(guó)生產(chǎn)的傳統(tǒng)制程芯片
發(fā)表于：7/9/2024 8:32:00 AM
三井化學(xué)宣布量產(chǎn)新一代CNT光刻薄膜
發(fā)表于：6/19/2024 8:30:42 AM
ASML公布Hyper NA EUV光刻機(jī)
發(fā)表于：6/17/2024 8:35:47 AM
沒(méi)有撤離荷蘭 ASML總部擴(kuò)建計(jì)劃獲批
發(fā)表于：6/17/2024 8:35:09 AM
ASML：EUV技術(shù)領(lǐng)域不會(huì)面臨來(lái)自中國(guó)公司的競(jìng)爭(zhēng)
發(fā)表于：6/7/2024 9:17:09 AM
ASML將于今年向臺(tái)積電交付最新款光刻機(jī)
發(fā)表于：6/6/2024 8:52:50 AM
ASML High NA EUV光刻機(jī)晶圓制造速度提升150%
發(fā)表于：5/31/2024 9:00:23 AM
2nm以下節(jié)點(diǎn)裝備競(jìng)賽打響臺(tái)積電魏哲家密訪ASML總部
發(fā)表于：5/29/2024 8:36:32 AM
臺(tái)積電或?qū)⑤^原計(jì)劃提前采用High NA EUV光刻機(jī)
發(fā)表于：5/29/2024 8:36:12 AM
ASML正在開(kāi)發(fā)hyper-NA EUV光刻機(jī)
發(fā)表于：5/23/2024 8:38:27 AM
ASML：考慮推出通用EUV光刻平臺(tái) 覆蓋不同數(shù)值孔徑
發(fā)表于：5/23/2024 8:38:25 AM
ASML暗示可遠(yuǎn)程癱瘓旗下光刻機(jī)
發(fā)表于：5/22/2024 8:58:32 AM

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